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文檔簡介
1、本文采用單輥急冷裝置成功制備了Ti40 Zr25CuB0.2非晶箔帶釬料,并用該釬料直接釬焊和加Cu中間層再釬焊兩種方式分別連接Si3N4陶瓷,研究了Si3N4/TiZrCuB/Si3N4接頭和Si3N4/TiZrCuB/Cu/TiZrCuB/Si3N4接頭的界面組織結(jié)構(gòu),分析了釬焊工藝參數(shù)對Si3N4/TiZrCuB/Cu/TiZrCuB/Si3N4接頭界面結(jié)構(gòu)的影響,并探討了Si3N4陶瓷/Si3N4陶瓷釬焊接頭界面反應的熱力學和界
2、面反應層生長行為的動力學,在此基礎上建立了釬焊連接參數(shù)選擇模型,并對釬焊接頭的形成機理進行了初步闡述。
研究發(fā)現(xiàn),非晶釬料中的活性元素Ti與Si3N4之間發(fā)生反應形成TiN界面反應層,這是實現(xiàn)兩者之間界面潤濕和最終實現(xiàn)可靠連接的重要條件。Si3N4/TiZrCuB/Si3N4接頭的典型界面結(jié)構(gòu)為Si3N4/TiN/Ti-Si+Zr-Si/Cu-Ti、Cu-Zr、Ti-Si+Zr-Si;Si3N4/TiZrCuB/Cu/TiZr
3、CuB/Si3N4接頭的典型界面結(jié)構(gòu)為Si3N4/TiN(Ti-Si)/Cu-Ti/Cu-Zr、Cu-Ti、α-Cu、Ti-Si+Zr-Si。
對于Si3N4/TiZrCuB/Cu/TiZrCuB/Si3N4接頭,通過調(diào)節(jié)釬焊工藝參數(shù),可以對界面結(jié)構(gòu)進行調(diào)控:隨著釬焊溫度的升高和釬焊保溫時間的延長,界面反應層TiN的平均厚度不斷增加,界面反應層形態(tài)由鋸齒狀轉(zhuǎn)為平直狀,逐漸變得連續(xù)且致密,連接界面處的塊狀Cu-Ti化合物顯著長大
4、,并向釬縫中心遷移,釬縫中心的Zr-Si、Ti-Si化合物由顆粒狀聚集長大呈塊狀;當釬焊溫度和保溫時間一定時,隨著中間層Cu箔的厚度增加,TiN界面反應層的平均厚度不斷減小,Ti-Si化合物層逐漸脫離TiN界面反應層向釬縫中心過渡,形態(tài)由片狀向顆粒狀轉(zhuǎn)化,且尺寸變小,釬縫中心組織逐漸聚集長大,形狀也有所改變,整個釬縫寬度先是變窄后變寬。
Si3N4陶瓷/Si3N4陶瓷釬焊接頭界面反應層生長行為的動力學研究表明:界面反應層的生長
5、符合擴散控制的拋物線方程。在1253K時,Si3N4/TiZrCuB/Cu/TiZrCuB/Si3N4接頭TiN界面反應層的生長系數(shù)k p為2.3×10-8m/s1/2。在1253K-1323K的釬焊溫度范圍內(nèi),該接頭TiN界面反應層的生長激活能Q為424.01kJ/mol。
建立了Si3N4/TiZrCuB/Cu/TiZrCuB/Si3N4釬焊連接過程數(shù)學模型,闡述了利用該模型選擇釬焊參數(shù)的方法。在選定的釬焊溫度下,首先根據(jù)
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