微納光柵的制備及特性研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、本文首先介紹了最近文獻發(fā)表的一些基本微光學元件,微透鏡陣列、微鏡、光開關(guān)、光柵的最新應用、制備方法,其中重點介紹了亞波長光柵的新發(fā)展。由于本文的主要工作是制備,因此對還處于研究階段的新微細加工工藝也做了簡單介紹,通過以上兩方面的閱讀,應該可以對目前微光學研究的重點發(fā)展方向有大致的了解。
　　接著,分別利用嚴格耦合波(RCWA)法和等效介質(zhì)法對光柵的反射率進行了分析,并用RSoft軟件對各種結(jié)構(gòu)參數(shù)下的反射率進行了模擬計算,該軟件采

2、用的理論基礎為RCWA。
　　實驗部分主要是用X射線光刻、電子束光刻等工藝制備了兩個垂直度好、高深寬比的亞波長光柵結(jié)構(gòu),其中一個周期為500nm,深寬比約為8,另一個周期為666nm,深寬比為2。創(chuàng)新點在于以光刻膠NUC APZ6633為中間層,保證了結(jié)構(gòu)的垂直度,另外快速原子刻蝕(FAB)利用中性原子轟擊所要刻蝕區(qū)域,也可以保證側(cè)壁的豎直度。然后,還利用MEMS技術(shù)制備的硅模具,在PDMS、PLLA、PS這幾種聚合物材料基片上做

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