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文檔簡介
1、磁性材料和半導體材料在當今的高技術信息領域發(fā)揮著重要的作用。通過設計將磁性和半導體這兩種材料的性能特征融合在一起,一種新型的信息材料,即所謂的磁半導體材料在1988年被首次報道出來。我們設計了一種化合物,含有稀土元素、過渡族金屬和Ge或Ga。這里的過渡族金屬作為磁性元素,稀土元素用于通過4f-3d電子之間的相互作用來調制磁有序和磁各向異性。
依據之前對RT2M2(R:稀土元素;T:過渡族金屬;M:SiorGe)化合物的研究
2、結果,本文選擇NdNi2Ge2、NdCo2Ge2、LaNi2Ge2和LaCo2Ge2作為研究對象。采用高純氬氣保護的非自耗電弧熔煉法制備。利用TREOR和PIRUM程序對衍射峰進行指標化。Rietveld結構精修結果表明RT2M2系列化合物呈四方ThCr2Si2型結構,空間群為I4/mmm。NdNi2Ge2、NdCo2Ge2、LaNi2Ge2和LaCo2Ge2的晶格常數分別為a=4.120(1)(A),c=9.835(0)(A);a=4
3、.039(8)(A),c=10.151(1)(A);a=4.189(2)(A),c=9.907(2)(A);a=4.105(6)(A),c=10.264(7)(A),α,β和γ為90°。稀土元素(Nd或La)占據2a(0,0,0)位置,過渡族金屬(Ni或Co)占據4d(0,1/2,1/4)位置,Ge占據4e(0,0,z)位置。采用超導量子干涉儀和標準四點法測量了磁性能和電性能。磁測量結果顯示NdNi2Ge2呈順磁性,NdCo2Ge2呈反
4、鐵磁性且在室溫下發(fā)生了磁轉變。LaNi2Ge2和LaCo2Ge2均呈鐵磁性且居里溫度高于室溫。電測量結果顯示所有樣品均屬半金屬性。
我們之前的研究結果表明Nd-Ga-M(M=金屬元素如Ni,Cu)金屬間化合物通過注入磁性元素而具有良好的電子輸運性能,并具有作為新型磁半導體材料潛在應用的可能。因此,我們注重研究Nd-Ga-M系列化合物。本文介紹了Nd-Ga化合物的制備技術和三元相結構分析。利用電弧熔煉法制備了NdGa3-xM
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