基于IMD技術(shù)的印刷質(zhì)量控制研究——基于IMD技術(shù)的薄膜印刷適性研究.pdf

1、近些年來(lái)，模內(nèi)裝飾鑲嵌注塑技術(shù)(IMD)從雙層膠片層間黏結(jié)結(jié)構(gòu)，發(fā)展到注塑成型多元結(jié)構(gòu)的三維成型技術(shù)，其中的油墨易與片材分離是關(guān)鍵的工藝問(wèn)題。PC與PET是應(yīng)用最廣泛的IMD薄膜，但兩者表面張力較低，對(duì)油墨的親和性較小，粘結(jié)性及可印性都比較差。國(guó)內(nèi)目前在印刷行業(yè)內(nèi)普遍應(yīng)用的薄膜表面改性技術(shù)是電暈處理法，但該方法有較大的局限性。所以，使用一種更有效的方法來(lái)改善IMD薄膜的印刷適性以及應(yīng)用一種精度更高的測(cè)量方式來(lái)評(píng)價(jià)該改性方法對(duì)薄膜印刷適性

2、的改善程度顯得非常重要。
　　 本論文將低溫等離子體技術(shù)應(yīng)用到IMD技術(shù)中，嘗試使用氧等離子體來(lái)提高PC與PET薄膜的表面能，增加表面粗糙度，從而達(dá)到改善薄膜印刷適性的目的；同時(shí)將納米劃痕技術(shù)引用到油墨與薄膜界面的附著力計(jì)算中，從而定量的評(píng)價(jià)低溫等離子體技術(shù)對(duì)薄膜表面改性的程度。首先從接觸角、表面張力與粗糙度等因素對(duì)附著強(qiáng)度的影響進(jìn)行了薄膜的印刷適性理論分析；其次分別對(duì)PC、PET薄膜進(jìn)行了低溫氧等離子體改性實(shí)驗(yàn)；等離子體處理后