等離子體源離子注入及輝光放電過程中脈沖鞘層動力學(xué)研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、針對等離子體源離子注入(PSII)過程中的直流脈沖(DC)鞘層,本文建立了兩維自洽流體動力學(xué)模型,模型包括描述離子的連續(xù)性方程、動量方程、電子Boltzmann分布,以及描述鞘層中電勢分布的泊松方程.利用這一模型研究了等離子體鞘層中各種物理量的時空演化規(guī)律,為低氣壓輝光放電過程建立了漂移擴(kuò)散流體動力學(xué)模型,研究了在連續(xù)的直流脈沖偏壓作用下,在氮氣中實現(xiàn)氣體輝光放電的演化過程,利用兩維無碰撞自洽流體動力學(xué)模型,考察了在無附加電極和在中心軸

2、線放置零電位圓柱狀附加電極兩種情況下,空心圓管端點附近脈沖偏壓等離子體鞘層的演化過程.利用Monte Carlo方法模擬離子在有附加零電位電極的空心圓管內(nèi)鞘層中行進(jìn)時的運動軌跡,考察了離子在等離子體鞘層中與中性氣體粒子碰撞對離子注入能量和注入角度的影響.通過在不同半徑的鞘層邊界上隨機(jī)抽取與半徑成正比的離子數(shù)量,計算了空心圓管中的所有離子注入圓管內(nèi)表面的能量分布和角度分布.針對半圓形容器,考察了在無附加電極和在中心點放置零電位球形附加電極

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