浮選中礦再磨和電位調(diào)控技術(shù)對(duì)黃銅礦浮選指標(biāo)的影響及機(jī)理研究.pdf

1、浮選中礦再磨是浮選流程中的重要作業(yè)。浮選中礦主要分為精選尾礦和掃選精礦兩類；中礦再磨前預(yù)處理方式主要有直接再磨，脫藥再磨和分級(jí)再磨三種。本文將浮選中礦再磨工藝和浮選礦漿電位調(diào)控技術(shù)相結(jié)合，研究了不同中礦處理方式下，再磨礦漿電位變化規(guī)律及其對(duì)浮選效果的影響。
　　首先，對(duì)黃銅礦和黃鐵礦的純礦物進(jìn)行浮選電化學(xué)性質(zhì)研究，發(fā)現(xiàn)在堿性條件下，礦漿電位小于270mV時(shí)，黃銅礦的捕收劑誘導(dǎo)效果明顯好于黃鐵礦的捕收劑誘導(dǎo)效果，這為黃銅礦浮選過程中

2、的銅硫分離，提高黃銅礦精礦品位提供了理論依據(jù)。
　　其次，對(duì)不同中礦不同處理方式下的磨礦后的礦漿電位進(jìn)行了研究，發(fā)現(xiàn)：采用中礦再磨后粗選前礦漿電位高于原流程；不同再磨處理方式對(duì)再磨后礦漿電位影響大小排序?yàn)椋悍旨?jí)再磨>脫藥再磨>直接再磨；礦漿電位值的大小順序?yàn)椋悍旨?jí)再磨>直接再磨>脫藥再磨。
　　再次，研究浮選中礦再磨工藝下，浮選礦漿電位的調(diào)控規(guī)律，流程試驗(yàn)表明：粗選前礦漿電位在100mV-500mV間，黃銅礦的浮選隨著電位的

3、升高，精礦品位降低，回收率升高；黃銅礦浮選的適合礦漿電位在200mV-300mV間，當(dāng)?shù)V漿電位為200mV-250mV時(shí)，有利于銅精礦品位的提高；當(dāng)?shù)V漿電位250mV-300mV時(shí)，有利于銅精礦回收率的提高。同一中礦處理方式時(shí)，粗選作業(yè)前電位控制在275mV的浮選閉路比電位控制在225mV的浮選閉路銅精礦回收率要高，品位要低；在未加電位調(diào)控藥劑時(shí)，獲得銅精礦回收率的指標(biāo)大小排序?yàn)椋悍旨?jí)再磨>直接再磨>脫藥再磨，銅精礦品位的指標(biāo)大小排序?yàn)?/p>

4、：脫藥再磨>直接再磨>分級(jí)再磨；在加入電位調(diào)控藥劑將粗選前電位調(diào)控至同一范圍時(shí)，獲得銅精礦回收率的指標(biāo)大小排序?yàn)椋悍旨?jí)再磨>直接再磨>脫藥再磨，銅精礦品位的指標(biāo)排序?yàn)椋好撍幵倌?直接再磨>分級(jí)再磨。中礦再磨工藝能夠提高單體解離度，其提高的單體解離度幅度大小排序?yàn)椋悍旨?jí)再磨>脫藥再磨>直接再磨。
　　最后，對(duì)中礦再磨的浮選機(jī)理進(jìn)行相關(guān)研究，發(fā)現(xiàn)：（1）、中礦再磨有利于提高浮選礦漿中礦物表面的Zeta電位，有利于黃藥氧化成雙黃藥。（2

5、）、通過對(duì)再磨前后有機(jī)物含量的測(cè)定，發(fā)現(xiàn)再磨后礦物表面 CuX的含量為再磨前的70.39％，磨礦后雙黃藥含量是磨礦前的179.75%，說明再磨過程能夠?qū)⒌V物表面的黃原酸鹽擦洗下來，并促進(jìn)黃藥向雙黃藥的氧化；（3）、通過黃藥氧化還原反應(yīng)動(dòng)力學(xué)的研究，發(fā)現(xiàn)采用中礦再磨增加氧化劑濃度、反應(yīng)溫度和活性分子碰撞幾率等因素能夠加速黃藥的氧化進(jìn)程。
　　本文的創(chuàng)新點(diǎn)在于：（1）、較為系統(tǒng)的研究了浮選中礦再磨流程的礦漿電位變化規(guī)律，結(jié)果表明：中礦