鋯合金基體上直流磁控濺射鉻膜組織與性能研究.pdf_第1頁(yè)
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1、該文采用直流磁控濺射技術(shù)在鋯合金基體上沉積制備了Cr膜,對(duì)不同處理?xiàng)l件下薄膜的微觀形貌、結(jié)構(gòu)以及薄膜的顯微硬度和附著性進(jìn)行了研究探討. 鋯合金板基體經(jīng)過(guò)不同的預(yù)處理后,采用直流磁控濺射方法,在相同的沉積參數(shù)下在其表面沉積了0.5μm、1.0μm、2.0μm、3.1μm厚度不等的純Cr薄膜以及Cr和鈮(Nb)的復(fù)合薄膜.之后對(duì)部分薄膜試樣分別進(jìn)行了300℃×1小時(shí)、500℃×1小時(shí)和750℃×49小時(shí)的退火處理. 使用X-射線衍射儀(XR

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