

版權(quán)說(shuō)明:本文檔由用戶(hù)提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請(qǐng)進(jìn)行舉報(bào)或認(rèn)領(lǐng)
文檔簡(jiǎn)介
1、采用蒸鍍、直流磁控濺射法在Q235鋼基體上制備出鋁及鋁合金薄膜,并就前處理、蒸鍍及磁控濺射工藝對(duì)鋁薄膜的表面形貌、結(jié)構(gòu)、耐蝕性及結(jié)合力等性能的影響進(jìn)行了研究。 采用蒸鍍、直流磁控濺射法制備鋁及鋁合金薄膜是可行的;有效的前處理工藝能夠提高薄膜質(zhì)量,有助于獲得連續(xù)致密、耐蝕性好的鋁薄膜。蒸鍍鋁薄膜的表面形貌隨薄厚度及蒸發(fā)速率的增大呈現(xiàn)不規(guī)則的網(wǎng)狀生長(zhǎng)特性,表面逐漸趨于平整均勻、光滑致密;鋁薄膜與碳鋼基體間的結(jié)合力均在60N以上,結(jié)合
2、力良好;在3.5%NaCl的水溶液中,鋁薄膜的極化阻力均在4.0×103Ω·cm2以上,遠(yuǎn)大于低碳鋼的極化阻力1000Ω·cm2,說(shuō)明薄膜對(duì)鋼基體有良好的保護(hù)作用。 為改善薄膜性能,研究了退火處理對(duì)薄膜性能的影響。結(jié)果表明,退火后,薄膜的晶格常數(shù)變??;退火處理降低了鋁薄膜的耐蝕性,但卻使厚鋁薄膜的耐蝕性得到一定程度的改善;薄膜的結(jié)合力略有降低。 與純鋁薄膜相比,Al-Mn合金薄膜的衍射峰向高衍射角方向偏移。Al-Mn合金
3、薄膜的耐蝕性能大約是純鋁薄膜的五倍,可達(dá)5.0×10-4Ω·cm2。加入錳后,薄膜的結(jié)合力略低于純鋁薄膜。 磁控濺射法制備的鋁薄膜表面光滑、致密、均勻,呈球狀顆粒生長(zhǎng)。相同厚度下,磁控濺射純鋁薄膜的耐蝕性能優(yōu)于蒸鍍純鋁薄膜的耐蝕性能,最高可達(dá)3.7×10-4Ω·cm2,能夠很好保護(hù)鋼基體。磁控濺射純鋁薄膜的結(jié)合力在64N以上、優(yōu)于蒸鍍純鋁薄膜。 磁控濺射Al-Mg合金薄膜的表面光滑、均勻、致密,呈球狀顆粒生長(zhǎng),晶粒隨靶材
溫馨提示
- 1. 本站所有資源如無(wú)特殊說(shuō)明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請(qǐng)下載最新的WinRAR軟件解壓。
- 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請(qǐng)聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶(hù)所有。
- 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁(yè)內(nèi)容里面會(huì)有圖紙預(yù)覽,若沒(méi)有圖紙預(yù)覽就沒(méi)有圖紙。
- 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
- 5. 眾賞文庫(kù)僅提供信息存儲(chǔ)空間,僅對(duì)用戶(hù)上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護(hù)處理,對(duì)用戶(hù)上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對(duì)任何下載內(nèi)容負(fù)責(zé)。
- 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請(qǐng)與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
- 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時(shí)也不承擔(dān)用戶(hù)因使用這些下載資源對(duì)自己和他人造成任何形式的傷害或損失。
最新文檔
- ZL101A鋁合金表面磁控濺射鍍TiN薄膜的研究.pdf
- 磁控濺射制備鋁薄膜
- 7075鋁合金射頻輔助磁控濺射TiN薄膜制備及性能研究.pdf
- 磁控濺射TiNi和TiNiCe合金薄膜的組織結(jié)構(gòu)與光學(xué)特性.pdf
- 磁控濺射Co和CoTaZr薄膜的組織結(jié)構(gòu)與性能研究.pdf
- 磁控濺射法鍍制Cu和ZnO薄膜的研究.pdf
- 磁控濺射及真空蒸鍍制備的納米氧化鋅薄膜的光電性質(zhì)研究.pdf
- AZ31鎂合金表面磁控濺射氮化鈦鋁薄膜及其性能研究.pdf
- 直流磁控濺射TiNiCu薄膜的制備與組織性能研究.pdf
- 磁控濺射制備Cu-Zr合金薄膜及其性能研究.pdf
- 磁控濺射N(xiāo)i-Mn-Ga合金薄膜的相變行為與性能.pdf
- 非平衡磁控濺射離子鍍制備TiAlN薄膜及其性能研究.pdf
- 磁控濺射TiNiCu形狀記憶合金薄膜的研究.pdf
- 反應(yīng)磁控濺射鍍制(Ti,Nb)N硬質(zhì)薄膜的研究.pdf
- 鋁合金輪轂表面磁控濺射鍍膜工藝的研究.pdf
- 鋁合金表面磁控濺射ZrN、TiN、TiCN彩色納米薄膜工藝的研究.pdf
- 鉬圓片表面磁控濺射鍍鎳薄膜的工藝、結(jié)構(gòu)及性能研究.pdf
- 磁控濺射法制備ZnO透明導(dǎo)電薄膜組織與性能研究.pdf
- 磁控濺射制備TiAlN和TiAlSiN薄膜及其性能研究.pdf
- 非平衡磁控濺射離子鍍TiN硬質(zhì)薄膜研究.pdf
評(píng)論
0/150
提交評(píng)論