面向微光學(xué)元件加工的納米壓印設(shè)備的優(yōu)化設(shè)計(jì).pdf

1、隨著微光學(xué)技術(shù)的不斷發(fā)展和成熟，微光學(xué)元件（MOE）制作工藝已經(jīng)成為其應(yīng)用領(lǐng)域拓展的重要技術(shù)瓶頸之一。納米壓印技術(shù)作為 MOE新興制造工藝，因其能夠突破傳統(tǒng)微細(xì)加工極限分辨率并降低加工成本而備受關(guān)注。先進(jìn)的加工技術(shù)離不開(kāi)先進(jìn)的設(shè)備，因此研制一種性能良好、使用方便、可靠性高的壓印設(shè)備對(duì)于MOE加工技術(shù)的發(fā)展顯得尤為重要。
　　針對(duì)課題組前期研發(fā)的熱壓印設(shè)備存在的問(wèn)題及不穩(wěn)定因素，本文從功能、集成度、整體性能等進(jìn)行多方面的優(yōu)化和改進(jìn)，

2、并對(duì)紫外/熱壓印兩用的壓印設(shè)備進(jìn)行設(shè)計(jì)。首先對(duì)納米壓印的工藝特點(diǎn)及相關(guān)技術(shù)國(guó)內(nèi)外發(fā)展現(xiàn)狀做了綜述，再?gòu)目傮w上對(duì)紫外/熱壓印兩用設(shè)備的結(jié)構(gòu)進(jìn)行介紹，重點(diǎn)闡述了溫度及壓力控制系統(tǒng)的設(shè)計(jì)與實(shí)現(xiàn)，最后通過(guò)一系列實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證壓印設(shè)備的可靠性。
　　本文以納米壓印制作微光學(xué)元件的基本原理作為指導(dǎo)，主要進(jìn)行了以下工作：設(shè)計(jì)了紫外/熱壓印兩用壓印設(shè)備系統(tǒng)，研制了基于MSP430F149的集溫度控制、壓力控制、紫外固化光源控制于一體的硬件控制模塊，主要

3、包括溫度變送模塊的設(shè)計(jì)、基于PWM控制方式的SSR驅(qū)動(dòng)設(shè)計(jì)、熱電偶溫度非線(xiàn)性擬合處理，并分別采用位置式和增量式PID控制算法實(shí)現(xiàn)溫度和壓力的精準(zhǔn)控制，成功達(dá)到了溫度控制系統(tǒng)的設(shè)計(jì)指標(biāo)。完成壓頭定位鎖緊、柔性靜壓執(zhí)行機(jī)構(gòu)的設(shè)計(jì)與建模。隔熱材料的選取及紫外固化光源的系統(tǒng)設(shè)計(jì)。并在 LABVIEW開(kāi)發(fā)環(huán)境下編寫(xiě)了上位機(jī)軟件，完成了串口通信、溫度、壓力實(shí)時(shí)采集與顯示、PID算法子程序等系統(tǒng)軟件的開(kāi)發(fā)。
　　論文最后對(duì)系統(tǒng)的各個(gè)功能模塊進(jìn)行