卷對卷納米壓印實(shí)驗(yàn)平臺的研制及其關(guān)鍵技術(shù)研究.pdf

1、納米壓印具有高分辨率、高產(chǎn)量、低成本的優(yōu)點(diǎn)，開辟了各種納米器件生產(chǎn)的廣闊前景，展示了廣闊的應(yīng)用領(lǐng)域，已被納入國際半導(dǎo)體藍(lán)圖(ITRS)，成為下一代22nm節(jié)點(diǎn)光刻技術(shù)的代表之一。然而傳統(tǒng)的納米壓印技術(shù)是單片整體式實(shí)現(xiàn)圖形復(fù)制，效率偏低，同時(shí)在大面積壓印過程中需要很大的壓印力和脫模力，容易造成模板、膠層圖形結(jié)構(gòu)的損壞。卷對卷納米壓印基于柔性模板和基底的局部接觸方式進(jìn)行微納結(jié)構(gòu)圖形的壓印成型和脫模，實(shí)現(xiàn)微納米結(jié)構(gòu)的低壓連續(xù)復(fù)制。
　　

2、本文根據(jù)卷對卷納米壓印的工藝流程研制了壓印實(shí)驗(yàn)平臺，其包括輥系(壓印輥、脫模輥、支撐輥)、控制電機(jī)、傳動機(jī)構(gòu)、輥縫和輥間距微調(diào)機(jī)構(gòu)等部分，實(shí)現(xiàn)壓印/固化時(shí)間控制、壓印力控制兩大主要功能。并在以PET為基底的聚合物膠層上成功復(fù)制出了不同分辨率的納米結(jié)構(gòu)圖形。
　　脫模是納米壓印的關(guān)鍵環(huán)節(jié)，復(fù)制圖形的很多缺陷如表面磨損、根斷、輪廓變形等都是在脫模過程中產(chǎn)生的，直接決定了最終的圖形復(fù)制質(zhì)量。本文首先從運(yùn)動角度分析了卷對卷納米壓印的脫模過