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文檔簡介
1、隨著新一輪國際柔性印刷電子技術的發(fā)展，電路線寬要求越來越細，對印刷電子材料及應用技術提出了更高的要求。其關鍵是如何在更大幅面的柔性基板上，以更低的成本實現(xiàn)特征尺寸更小的柔性電子器件。隨著器件尺寸進一步縮小，要求交聯(lián)導電網絡的線寬達納米量級。因此電路線寬特征尺寸在亞微米、甚至納米級的柔性導電電路的研制成為必然。
本論文結合納米壓印技術和低維納米材料填充技術，制作圖形化超微細柔性透明導電電路。首先利用課題組激光圖形化設備iGrap
2、her，制作圖形化柔性透明基底。并采用低溫等離子體表面處理技術，改變柔性透明基材UV膠表面特性。然后采用納米涂布及刮涂技術，使低維納米材料填充至網絡溝槽中，獲得微細金屬網格型透明導電薄膜。并對不同深寬比網絡溝槽的填充特性進行了實驗研究。另外，在刮涂填充技術的基礎上，提出利用附加電場實現(xiàn)低維納米材料的可控性填充。實驗表明，電場驅動填充可明顯改善低維納米材料填充的方向選擇性，使得任意取向的溝槽結構均獲得均勻填充，從而獲得導電性較高的超微細透
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