2023年全國(guó)碩士研究生考試考研英語(yǔ)一試題真題(含答案詳解+作文范文)_第1頁(yè)
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1、電子散斑干涉測(cè)量(ESPI)是一種結(jié)合了激光、計(jì)算機(jī)、CCD和圖像處理的現(xiàn)代光學(xué)測(cè)量技術(shù),由于具有非接觸、高靈敏度、全場(chǎng)測(cè)量等優(yōu)點(diǎn),已經(jīng)被廣泛的應(yīng)用于粗糙表面測(cè)量、應(yīng)力應(yīng)變分析、振動(dòng)測(cè)量、無(wú)損檢測(cè)等領(lǐng)域。近年來(lái)隨著納米材料迅速發(fā)展,微結(jié)構(gòu)的力學(xué)特性、表面的應(yīng)力變化、形變量等重要的材料性能參數(shù)的測(cè)量顯得越發(fā)重要,因此結(jié)合顯微光學(xué)系統(tǒng)的電子散斑干涉測(cè)量技術(shù)(Micro-ESPI)應(yīng)運(yùn)而生,成為一種非常重要的測(cè)量手段。
   本文對(duì)該

2、技術(shù)進(jìn)行了探索性的研究,主要的工作有:⑴用MATLAB語(yǔ)言模擬仿真了干涉測(cè)量技術(shù)的四步相移算法,并對(duì)步長(zhǎng)誤差對(duì)測(cè)量精度的影響進(jìn)行了討論;⑵完成了相移裝置的步長(zhǎng)測(cè)量實(shí)驗(yàn);⑶搭建了顯微電子散斑干涉測(cè)量(Micro-ESPI)系統(tǒng),運(yùn)用四步相移算法對(duì)硅片進(jìn)行測(cè)量,用CCD拍攝硅片變形前后相關(guān)散斑干涉圖。利用MATLAB語(yǔ)言編寫(xiě)了散斑圖濾波和空間二維相位展開(kāi)算法,通過(guò)對(duì)所獲得的微結(jié)構(gòu)變形前后的散斑干涉條紋圖進(jìn)行處理,得出硅片變形的相位信息,最終

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