鋁合金低熔點(diǎn)無腐蝕釬劑的研制.pdf

1、鋁及其合金因其優(yōu)良的性能而越來越廣泛的應(yīng)用于各行業(yè)中，尤其在航空航天工業(yè)。釬焊作為鋁合金連接的重要方法，具有焊件變形小、尺寸精度高等優(yōu)點(diǎn)。在釬焊中常常采用釬劑來清除鋁表面的氧化膜和減小熔態(tài)釬料與母材之間的界面張力。氟鋁酸鉀釬劑不吸潮、無腐蝕，正在被廣泛應(yīng)用于鋁及鋁合金的釬焊，但由于該釬劑熔點(diǎn)較高，限制了其使用范圍。本文試圖在KF-AlF3釬劑基礎(chǔ)上，通過添加第三組元以降其熔點(diǎn)。研究表明添加KBr能獲得低熔點(diǎn)的無腐蝕性釬劑，DSC、XRD

2、和一系列釬焊性能實(shí)驗(yàn)表明，當(dāng)KBr含量為20％wt時(shí)釬劑熔點(diǎn)最低，為522.3℃，相組成為KAlF4、K3AlF6及KAlBr4，由其形成的KAlF4-K3AlF6-KAlBr4三元共晶是釬劑熔點(diǎn)降低的主要原因；通過性能測(cè)試表明，此釬劑具有良好的鋪展性、填縫性，去膜能力也有較大程度提高，因而，該釬劑可以應(yīng)用于低熔點(diǎn)鋁合金的釬焊。
　　 通過X衍射對(duì)AlF3-KF釬劑和新型AlF3-KF-KBr釬劑在純鋁表面的去膜機(jī)理分析研究發(fā)現(xiàn)

3、：AlF3-KF-KBr釬劑使氧化膜松動(dòng)，破碎，并和其發(fā)生反應(yīng)使膜徹底被破壞，而反應(yīng)產(chǎn)物為一層均勻、致密的KAl5O8和Al5O7Br膜，其阻礙鋁進(jìn)一步氧化；此外還發(fā)現(xiàn)，AlF3-KF去除氧化膜主要是K3AlF6與Al2O3發(fā)生反應(yīng)，KAlF4不與其發(fā)生反應(yīng)，確保了釬劑的流動(dòng)性。用AlF3-KF-KBr釬劑在6063鋁合金表面釬焊表明新型AlF3-KF-KBr釬劑難以去除6063鋁合金表面的MgO，造成6063鋁合金釬焊效果很差，但通過