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文檔簡介
1、本文描述了多種制備納米ZnxFe3-xO4粉體的方法,并以化學(xué)共沉淀法為例描述了Zn0.3Fe2.7O4樣品的制備過程。用X射線衍射儀、振動(dòng)樣品磁強(qiáng)計(jì)對產(chǎn)物進(jìn)行分析表明,所得粉體具有尖晶石結(jié)構(gòu),表現(xiàn)出超順磁性。采用射頻磁控濺射法制備Zn0.3Fe2.7O4薄膜,研究了不同基片種類對Zn0.3Fe2.7O4薄膜性能的影響。同時(shí)研究了基片溫度、濺射氣壓、退火工藝對薄膜性能的影響,從中探索提高Zn0.3Fe2.7O4薄膜飽和磁化強(qiáng)度Ms的有效
2、途徑。采用高精度振動(dòng)樣品磁強(qiáng)計(jì)、變溫磁一電綜合測試系統(tǒng)對樣品磁學(xué)、電輸運(yùn)以及自旋相關(guān)磁電阻效應(yīng)進(jìn)行了表征。
結(jié)果表明:不同種類的Si基片明顯影響薄膜的擇優(yōu)取向?;瑴囟韧ㄟ^影響沉積粒子的擴(kuò)散遷移能力來影響形成薄膜的性能,合適的基片溫度薄膜晶化程度高,晶粒大小均勻,薄膜的磁性能更好。濺射氣壓主要影響沉積粒子的成核率。在退火工藝上,退火溫度決定薄膜的結(jié)晶程度和品粒的大小。研究了磁電阻和電阻率隨溫度的變化關(guān)系,發(fā)現(xiàn)磁電阻隨著電阻
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