微圖形化技術(shù)在印刷電子材料的應(yīng)用研究.pdf

1、本論文主要進(jìn)行了激光圖形化技術(shù)在印刷電子材料中的應(yīng)用研究。近年來(lái)，隨著新型有機(jī)半導(dǎo)體材料的不斷涌現(xiàn)，以低成本的印刷方式制作電子器件成為可能，諸如電子紙、柔性顯示屏、柔性發(fā)光二極管等具有柔軟特性的電子產(chǎn)品不斷推出，印刷電子也被業(yè)界稱為下一代半導(dǎo)體制造技術(shù)。其中柔性透明導(dǎo)電膜作為印刷電子材料的一個(gè)重要課題，得到了廣泛研究，以低成本的印刷工藝生產(chǎn)柔性透明導(dǎo)電膜成為科研人員的一個(gè)目標(biāo)。然而現(xiàn)今的印刷電子工藝，如絲網(wǎng)印刷、噴墨打印和凹版柔性印刷都

2、無(wú)法同時(shí)實(shí)現(xiàn)高效率、低成本和高精度的印刷制作。
　　 本論文將精密光刻微圖形、納米壓印技術(shù)和Ag漿刮涂技術(shù)相結(jié)合，實(shí)現(xiàn)了由微細(xì)金屬網(wǎng)格柵構(gòu)成的柔性透明導(dǎo)電膜的制作。首先，對(duì)能夠保證圖形高精度拼接和高效率光刻的飛行頻閃平鋪曝光技術(shù)和Z軸校正技術(shù)進(jìn)行了分析，對(duì)圖形化設(shè)備的圖形輸入器件DMD在相干光照明下的相位調(diào)制特性進(jìn)行了理論和實(shí)驗(yàn)研究，發(fā)現(xiàn)DMD的微鏡偏轉(zhuǎn)角誤差(±1°)對(duì)圖形化設(shè)備的能量利用率有很大影響。利用激光圖形化設(shè)備制作了

3、透明導(dǎo)電膜所需的電路圖形的精密光掩模板，其線寬為2.5μm。研究了厚膠曝光工藝，采用鑄模技術(shù)得到柔性PDMS壓印模板，實(shí)驗(yàn)表明用負(fù)膠母版二次鑄模得到的PDMS模板的霧度(8％)要低于正膠模板一次鑄模(19％)。最后，采用紫外固化納米壓印技術(shù)在以PET為基底的UV膠上壓印出溝槽圖形，用Ag漿刮涂技術(shù)將納米Ag填入溝槽中得到微細(xì)金屬網(wǎng)格透明導(dǎo)電膜，其表面電阻為3Ω/□。在刮涂Ag漿的實(shí)驗(yàn)中，通過(guò)增加溝槽的深度和UV膠表面的親水性，可使得更多