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1、半導(dǎo)體工藝中無(wú)意引入的金屬雜質(zhì)的污染會(huì)極大損害器件性能,為了將金屬雜質(zhì)從器件的有源區(qū)吸除,吸雜技術(shù)被廣泛的研究,器件尺寸的不斷縮小和新的金屬化工藝的不斷出現(xiàn)更需要能在低溫有效吸除的技術(shù).近年來(lái)一種新的吸雜技術(shù)-氦微孔吸雜技術(shù)因其對(duì)金屬雜質(zhì)顯著的吸除效果而備受關(guān)注.這種方法是通過(guò)高劑量的氦離子注入硅中并低溫?zé)崽幚硇纬晌⒖讓?duì)雜質(zhì)進(jìn)行吸除.已有實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,微孔吸雜的效果優(yōu)于磷吸雜或背面損傷吸雜作用.而過(guò)去的工作多集中在從基礎(chǔ)研究的角度研究氦
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