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文檔簡介
1、光刻是微電子制造工藝的核心步驟,光刻機是決定微電路圖形線寬等關鍵參數的重要設備,193nm光刻機是國家重大專項項目之一。為了保證光刻成像精度,需要對光刻機曝光光源物鏡實現±0.01℃精度的超精密溫控。為此,我們研究光刻機的水循環(huán)精密溫控系統(tǒng)。本文主要針對水循環(huán)精密溫控系統(tǒng)中的監(jiān)控子系統(tǒng)進行設計,內容包括PLC對溫控對象數據的采集和底層通訊,本地端HMI監(jiān)控軟件的設計,遠程端PC監(jiān)控軟件的設計。
論文首先闡述了溫控電路、水路總體
2、方案原理。溫控數據采集自Pt100溫度傳感器(核心的傳感器)、液位傳感器、流量傳感器、漏液檢測傳感器等,以PLC為中樞進行信息處理,依靠主要控溫器件——溫控儀實現溫度控制,對泵、閥等執(zhí)行器進行閉環(huán)操作,從而實現高精度的溫度控制。
其次,論文針對監(jiān)控子系統(tǒng)的下位機軟件通訊進行了設計。其中分析了PLC的232IF模塊通信協議,其與溫控儀的通信協議,解釋了通訊命令幀的格式和含義,編寫了PLC和溫控儀之間的通訊程序,定義了底層監(jiān)控信息
3、的存儲單元。
然后,設計了監(jiān)控子系統(tǒng)的本地監(jiān)控模塊。設計中采用臺灣某公司的MT6000系列人機界面產品和EB8000組態(tài)軟件,通過與PLC和人機界面通訊,搭建了用于本地監(jiān)控的上位機模塊,監(jiān)控的變量有電磁閥等執(zhí)行元件、溫度曲線、報警故障信號、歷史數據庫等。
最后,為了滿足生產研究中的人機分離和遠距離操作的要求,又設計了遠程端的監(jiān)控模塊,著重對PID參數及故障事件進行監(jiān)控,主要的監(jiān)控手段利用雙緩沖技術和ActiveX控件
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