銅表面鎳鉬磷轉化膜的制備及性能研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、本文研究了化學沉積方法在銅表面制備生成鎳鉬磷轉化膜的工藝和性能，初步探討了轉化膜的形成機理。采用正交實驗的方法優(yōu)化出最佳工藝條件：NiSO4濃度為30g/L、NaH2PO2濃度為25g/L、(NH4)2Mo2O7濃度為0.4g/L、CH3COONa濃度為15g/L、pH值為9、時間為90min。
　　 研究了鍍液中主鹽、絡合劑、穩(wěn)定劑、緩沖劑濃度對成膜過程的影響。用酸點腐蝕試驗、物理實驗等方法測試了鎳鉬磷轉化膜的性能，研究各種工

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