玻璃窯用碹頂硅磚的損毀機理研究及優(yōu)質(zhì)硅磚的研制.pdf

1、本文采用化學(xué)分析、XRD分析、SEM分析等方法研究了玻璃窯碹頂用硅磚殘磚各段帶的化學(xué)成分變化及相組成變化，探討了玻璃窯碹頂用硅磚的損毀機理，并在此基礎(chǔ)上研制了新一代玻璃窯碹頂用優(yōu)質(zhì)致密硅磚。研究表明，玻璃窯碹頂用硅磚在使用后.在熱面到冷面的方法上出現(xiàn)了不同段帶，其化學(xué)成分各不相同。與原磚比較，用后磚出現(xiàn)了化學(xué)組成重新分布的現(xiàn)象，分析認(rèn)為溫度梯度是形成此現(xiàn)象的主要原因。在溫度梯度作用下，不同碹頂部位和不同段帶的堿蒸汽濃度不一樣，各種堿蒸汽

2、的蒸汽壓存在差異以及它們的擴散速率不同，因而出現(xiàn)化學(xué)組成重新分布。玻璃熔窯碹項硅磚的工作面蝕損及內(nèi)部熔洞的形成則是碹頂硅磚損毀的主要方式?；瘜W(xué)成分的重新分布及窯內(nèi)溫度梯度的存在，引起硅磚的鱗石英在使用過程中的相變.是對上述過程的促進。 所研制的優(yōu)質(zhì)高純硅磚SiO2的含量大于96％，熔融指數(shù)(Al2O3+2R2O)小于0.5％，F(xiàn)e2O3含量小于0.5％，常溫耐壓強度65MPa，0.2MPa下的荷重軟化溫度為1690℃，耐火度高于