半導體材料低溫無磨料超光滑表面拋光分析的研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、本文結合國家自然科學基金項目“埃及超光滑表面低溫無磨料拋光的理論與實驗研究”，對低溫無磨料拋光加工方法進行了較為系統(tǒng)的研究。 本文介紹了實現低溫無磨料拋光的實驗裝置及冰盤、工件盤的制備過程，闡述了該加工方法的加工工藝和加工后工件的清洗與測量，用不同的水質、壓頭壓力，冰盤轉速、工件盤偏心及拋光時間對半導體材料進行了拋光試驗，研究在此條件下，對拋光結果的影響規(guī)律，得出拋光所需的最佳加工參數，并且在微觀的原子、分子尺度上，運用表面、界

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