氧化鋁模板的制備及組裝氧化鋅納米陣列的研究.pdf

1、多孔氧化鋁膜由于其具有獨特結(jié)構(gòu)而被廣泛用于各種納米陣列結(jié)構(gòu)材料的制備，而其本身在光學器件和薄膜發(fā)光器件中也具有廣泛的應用前景。
　　 低維納米材料，如納米點，納米管，納米線，是未來納米器件的基本單元，是各種納米器件的基礎(chǔ)。寬禁帶直接帶隙半導體ZnO，由于有化學穩(wěn)定性好，成本低、外延生長溫度很低、原材料資源豐富、價格便宜、對環(huán)境無毒無害等優(yōu)勢，使其在光電，光催化、紅外、化工，氣敏材料等領(lǐng)域具有很好的發(fā)展前景。
　　 本文論

2、述了氧化鋁模板及其在氧化鋅納米陣列合成上的應用。論文首先從介紹納米材料入題，論述了納米材料的發(fā)展歷史與現(xiàn)狀，基本性質(zhì)和發(fā)展前景；·闡述了模板合成納米材料的方法及注意事項。然后進入到氧化鋁模板的研究階段，在不同的工藝條件下制備了氧化鋁模板，并對氧化鋁模板的定量刻蝕作了初步研究。接著開始了合成了氧化鋅納米陣列的內(nèi)容，以兩種不同的方法合成了氧化鋅納米陣列結(jié)構(gòu)。
　　 所得到的主要結(jié)果和結(jié)論如下：
　　 (1)以二次陽極氧化法制

3、備了高度有序的AAO模板，探討了影響氧化鋁模板的各個因素，實驗研究表明影響AAO模版的納米孔形貌及有序性的因素主要有以下幾點：鋁片材質(zhì)，退火溫度，電解質(zhì)類型，電解液濃度，氧化電壓，氧化時間，電解溫度等。研究了AAO模板的定量刻蝕，實驗表明：用磷鉻酸刻蝕劑刻蝕AAO模板可以達到預期效果，該方法并未破壞AAO模板的特殊結(jié)構(gòu)，且通過控制刻蝕時間可以控制AAO模板刻蝕量的多少。
　　 (2)分別采用雙直流電解法和溶膠凝膠法在氧化鋁模板中