UV-LIGA工藝中SU-8膠內(nèi)應(yīng)力和熱溶脹性研究.pdf_第1頁(yè)
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1、大連理工大學(xué)碩士學(xué)位論文UVLIGA工藝中SU8膠內(nèi)應(yīng)力和熱溶脹性研究姓名：朱神渺申請(qǐng)學(xué)位級(jí)別：碩士專業(yè)：機(jī)械電子工程指導(dǎo)教師：杜立群20071223大連理工大學(xué)碩士學(xué)位論文StudyontheInternalStressandThermalSwellingofSU8PhotoresistinUVLIGAProcessAbstractWiththerapiddevelopmentofMEMS，UVLIGAtechnologybasedo

2、nSU8photoresisthasbeenappliedextensivelyThickSU8photoresisthasbeenwidelyusedtofabricatehighaspectratiostructureHowever，theaspectratioanddimensionerrorofelectroformingarelargelylimitedbythewellknowinternalstressandthermal

3、swellingofSU—8photoresistinducedbyprocessingTheprimaryworkofthisstudyismainlyconcentratedonthetwoaspectsTheresearchresultisbeneficialforimprovingthestabilityofSU8processinganddimensionalprecisionofelectroformingBasedonth

4、etheoryofcurvaturemethod，atheoreticalformulaforSU一8internalstressisestablishedAndafiniteelementanalysis(ANSYS)isperformedtoinvestigatetheinfluenceofcurvaturewhichinvolvessubstratediameterfilmthicknessandpostexposurebake(

5、PEB)temperatureInternalstressesofSU8underdifferenttemperaturesaremeasuredthroughexperimentsTheresultsshowthatthePEBtemperatureisthemainfactorindevelopingtheresultedinternalstress，andtheeffectsoffilmandsubstratediameterth

6、icknessatesubordinateMoreover，experimentalresultsshowthatlowerPEBtemperaturecaneffectivelyreducetheinternalstressTheprocessingparametersofnegativeSU一8photoresistareoptimizedintermsofinternalstressA3’factorialorthogonalar

7、raytechniqueisdesignedtomeasuretheinternalstressofSU一8photoresistunderninedifferentprocessparametersAccordingtotheresultsoforthogonalexperiment，aneuralnetworkisemployedtoinvestigatetheinfluenceofprocesspatametersontheint

8、ernalstressAndthepredictionmodelisbuiltbetweentheinternalstressandthreemainprocessparameters：softbaketemperature，exposureenergyandPEBtemperatureThepredictionresultsareingoodagreementwiththeexperimentalresultsAndthelithog

9、raphicprocessofSU一8isoptimizedwiththeapplicationofneuralnetworkSU一8photoresististheelectroformingmouldformetalstructure，anditkeepsthedimensionalprecisionofmicrostructureHowever，thefeaturewidthofmicrochannelwillbeseriousl

10、yreducedafterelectroformingduetothethermalswellingofpatternedSU8inelectrolyteBasedontheUV—LIGAprocessofmicromoldinsert，thedeformationofthermalswellingofSU8photoresistisinvestigatedbyANSYSsimulationAndtheswellingtrendofmi

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