HCD離子鍍生產(chǎn)過程自動(dòng)控制系統(tǒng)的設(shè)計(jì)與開發(fā).pdf

1、空心陰極(HCD)離子鍍是基于材料表面處理的一種鍍膜技術(shù)。其生產(chǎn)工藝過程復(fù)雜，要求控制的參數(shù)眾多，同時(shí)被控對(duì)象存在耦合、非線性和時(shí)變特性，無法建立精確的數(shù)學(xué)模型，難以通過常規(guī)控制方法實(shí)現(xiàn)生產(chǎn)過程穩(wěn)定化控制。據(jù)此，將先進(jìn)控制理論、計(jì)算機(jī)與網(wǎng)絡(luò)通訊技術(shù)應(yīng)用到HCD離子鍍生產(chǎn)過程，實(shí)現(xiàn)生產(chǎn)過程綜合自動(dòng)化，對(duì)提高產(chǎn)品的質(zhì)量和生產(chǎn)效率有著極其重要的意義。同時(shí)也為其他離子鍍?cè)O(shè)備計(jì)算機(jī)開發(fā)提供寶貴經(jīng)驗(yàn)。 論文詳細(xì)介紹了HCD離子鍍生產(chǎn)過程計(jì)算

2、機(jī)控制系統(tǒng)的研究和設(shè)計(jì)的方法。在分析HCD離子鍍機(jī)理的基礎(chǔ)上，探討了溫度、氣體(N2、Ar)流量以及真空度對(duì)離子鍍質(zhì)量的影響，分析了影響離子鍍溫度、氣體(N2、Ar)流量和真空度的主要因素。以對(duì)離子鍍溫度有直接影響的基體偏壓為被控對(duì)象，引入一種改進(jìn)的模糊控制算法；以氣體(N2、Ar)流量為控制對(duì)象，引入變比值雙閉環(huán)控制系統(tǒng)；以羅茨泵為控制對(duì)象，利用變頻器，通過調(diào)節(jié)羅茨泵的轉(zhuǎn)速實(shí)現(xiàn)爐子真空度的控制。針對(duì)HCD離子鍍特點(diǎn)設(shè)計(jì)了其生產(chǎn)過程計(jì)算