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1、鄭州大學(xué)博士學(xué)位論文硅納米孔柱陣列及其金銅復(fù)合體系的制備、結(jié)構(gòu)與場(chǎng)發(fā)射特性姓名:富笑男申請(qǐng)學(xué)位級(jí)別:博士專(zhuān)業(yè):凝聚態(tài)物理指導(dǎo)教師:李新建20060106鄭州大學(xué)博士學(xué)位摘要摘要納米復(fù)合結(jié)構(gòu)。4研究了SiNPA和A“SiNPA的場(chǎng)致發(fā)射性能。分別測(cè)試了Si—NPA和A“SijNPA場(chǎng)致發(fā)射性能。測(cè)試結(jié)果顯示:Si_NP:A的開(kāi)啟電場(chǎng)為~148V/um;在5V,pm的外加電場(chǎng)下,其發(fā)射電流密度為286p~cIn2;在外加電場(chǎng)44V/nm時(shí),
2、其電流浮動(dòng)率為13%。si悄PA發(fā)射性能增強(qiáng)的原因是由于其獨(dú)特的表面形貌和結(jié)構(gòu)所致。但是由于硅的導(dǎo)熱性能不好使它在高場(chǎng)下的發(fā)射穩(wěn)定性較差。為了改善SiNPA的場(chǎng)發(fā)射性能,在其上沉積金。得到的A“Si—NPA的場(chǎng)發(fā)射性能優(yōu)良。尤其是存發(fā)射的穩(wěn)定性方面有很大的提高。此外,我們還研究了A1l/siM’A的場(chǎng)發(fā)射機(jī)制。研究表明,在低場(chǎng)區(qū),Al】/SiNP:A主要以硅納米微晶為發(fā)射體;而在高場(chǎng)區(qū),A“SiNPA的主要發(fā)射體為金納米微晶。這也正是A
3、“SiNP:A場(chǎng)發(fā)射穩(wěn)定性增強(qiáng)的原因。5以siNPA襯底,采用浸漬技術(shù)制各出一種自支撐的金納米薄膜。實(shí)驗(yàn)表明,金納米薄膜的制各過(guò)程是一個(gè)自終止過(guò)程。當(dāng)Si_NPA被耗盡后,浸漬溶液中Au3的還原反應(yīng)將自行終止;同時(shí),所形成的金納米薄膜自動(dòng)與襯底脫離并成為一種自支撐薄膜。薄膜的形成機(jī)理被歸因于siNPA所具有的高的表面活性和還原性。測(cè)試結(jié)果顯示,如此制備的金納米薄膜具有很強(qiáng)的氮吸附和氮儲(chǔ)存能力。這一特性有可能在氣體傳感器、空氣分離和氮純化
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