鈮硅化合物的氧化行為及機理.pdf

1、本論文研究了NbSi2及Nb5Si3-66vol％NbSi2鈮硅化合物的氧化行為及機理。利用原位X射線衍射分析了氧化物的結(jié)構(gòu)，借助掃描電鏡觀察了氧化物形貌及能譜儀分析氧化物的成分分布，利用稱重法獲得氧化動力學(xué)曲線，并進行了必要的理論分析。氧化行為表明，隨著溫度升高鈮硅化合物的氧化速度增加，隨著含Si量增加鈮硅化物的抗氧化能力增大。鈮硅化物NbSi2在700℃溫度下發(fā)現(xiàn)有明顯的Pest現(xiàn)象，而Nb5Si3-66vol％NbSi2則不發(fā)生

2、此類現(xiàn)象。觀察氧化膜形貌發(fā)現(xiàn)，NbSi2的700℃氧化膜凹凸不平、碎裂成花瓣狀且呈疏松多孔特征，600℃ 氧化膜保持連續(xù)、完整及致密。Nb5Si3-66vol％NbSi2的700℃時氧化膜雖出現(xiàn)裂紋即不連續(xù)，但整體上比較完整及致密。原位X射線衍射分析證實，在Nb5Si3-66vol％NbSi2的氧化初期，表面Nb5Si3和NbSi2同時參與氧化，其中 Nb5Si3的氧氣反應(yīng)更為劇烈。當(dāng)氧氣超過一定時間后，Nb5Si3和NbSi2的含