不同電參數(shù)條件下鋁、鎂合金微弧氧化陶瓷研究.pdf

1、微弧氧化表面處理過程伴隨著復(fù)雜的物理、化學(xué)和電化學(xué)反應(yīng)，而這些反應(yīng)受到溶液體系、電參數(shù)條件、處理溫度等諸多因素的影響，其中脈沖電源的電參數(shù)條件是主要的影響因素之一。本文利用自行研制的MAO系列微弧氧化電源設(shè)備，制備了不同電參數(shù)條件下的鋁、鎂合金微弧氧化陶瓷層。通過實(shí)驗(yàn)結(jié)果的比較和分析，探討了電流密度、頻率、占空比、正負(fù)脈沖個(gè)數(shù)等電參數(shù)條件對(duì)氧化陶瓷層性能的影響。論文的主要研究結(jié)果如下： 1.鋁合金陶瓷層的厚度隨著電流密度的增大而

2、增加，施加負(fù)脈沖可降低陶瓷層的生長厚度和陶瓷層表面粗糙度；當(dāng)負(fù)脈沖個(gè)數(shù)為2和4時(shí)，陶瓷層對(duì)電解質(zhì)的阻擋作用強(qiáng)，可降低腐蝕速度，提高其耐蝕性。 2.鋁合金微弧氧化陶瓷層主要由α-Al2O3、γ-Al2O3以及δ-Al2O3組成。其中具有緊密結(jié)構(gòu)和高硬度的α-Al2O3相是提高陶瓷層硬度的主要相。 3.鎂合金陶瓷層生長過程中，在較高頻率下制備的陶瓷層表面粗糙度較??；高頻下，占空比越大陶瓷層的粗糙度也越大。 4.鎂合金