Ni-納米TiO-,2-復(fù)合電鍍層的制備與性能研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、在純鎳鍍液中添加納米TiO2粒子，采用復(fù)合電鍍的方法下制備出Ni-納米TiO2復(fù)合電鍍層。系統(tǒng)地研究了Ni-納米TiO2復(fù)合電鍍過程中鍍液組分濃度、表面活性劑、各工藝條件對鍍層性能及表面形貌的影響。用X-射線衍射分析(XRD)、金相顯微鏡研究了鍍層的成分、結(jié)構(gòu)和表面形貌。 得出的優(yōu)化鍍液成分為NiSO4·7H2O：240g·L-1，NiCl2·6H2O：40g·L-1，H3BO3：40g·L-1，光亮劑：0.05～0.1g·L-

2、1，納米TiO2添加量：24g·L-1，陽離子表面活性劑。優(yōu)化的工藝條件如下：陰極電流密度：2.0～3A·dm-2，攪拌速率：675r·min-1，pH值：3.5～4.5，施鍍溫度：30～55℃，施鍍時(shí)間：2～3h，納米TiO2超聲波分散。在該配方和工藝條件下獲得的復(fù)合鍍層表面光亮、硬度高、與基體結(jié)合良好。 研究表明，選擇陽離子表面活性劑、超聲波分散的方式對納米TiO2粒子進(jìn)行分散，所得復(fù)合鍍層性能較佳。納米TiO2粒子的加入使

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