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文檔簡介
1、本文利用化學(xué)復(fù)合鍍和電化學(xué)復(fù)合沉積方法在不銹鋼表面制備出Ni-P-TiO2光催化薄膜，初步探討了不銹鋼表面沉積TiO2的原理及影響光催化降解甲基橙效率的因素。主要結(jié)論為： 1、利用化學(xué)復(fù)合鍍的方法，在不銹鋼表面制備出Ni-P-TiO2復(fù)合薄膜，通過設(shè)計正交實驗，分析復(fù)合鍍過程中各因素對薄膜光催化降解甲基橙溶液效率的影響，得到最佳的制備條件。 2、以不銹鋼為陰極，石墨片為陽極，采用直流電沉積法，在不銹鋼表面制備出Ni-P-
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