基于邊緣特性的DMD光窗工藝設(shè)計(jì)及控制.pdf

1、本論文的目的主要是設(shè)計(jì)開發(fā)一種封裝元件的加工制造工藝，這種封裝元件主要應(yīng)用于DLP技術(shù)里面的DMD芯片的封裝。由于該芯片的特殊性，要求使用的封裝元件也就是我們所謂的窗口片必須具備一定的光學(xué)性質(zhì)，特別是AETS(Apertureedgetestscore孔徑邊界分值)要求。通過研究測試，我們發(fā)現(xiàn)這個(gè)問題主要是DLP系統(tǒng)工作時(shí)強(qiáng)光在孔徑的邊界產(chǎn)生了反射引起了圖像邊沿產(chǎn)生亮線，也就是我們說的AETS分值高的問題。為了控制AETS的分值，其主要

2、需要控制的是孔徑邊界的剖面形狀，防止反射的產(chǎn)生；當(dāng)然，非孔徑區(qū)域也是必須要對可見光有足夠的吸收，反射也是足夠的小。 為了達(dá)到這個(gè)目的，本文的設(shè)計(jì)是一種運(yùn)用離子輔助沉積鉻膜、厚膠光刻及干法刻蝕制作DMD封裝元件windows的工藝。我們采用的是離子輔助氣相沉積技術(shù)在一鑲嵌在Kovar上的7056玻璃上沉積鉻膜，然后運(yùn)用干法壓膜方式在其上蓋上一層光刻膠，曝光、顯影形成一個(gè)所需圖形的負(fù)象。接著運(yùn)用反應(yīng)離子刻蝕技術(shù)在形成的光刻膠圖形上刻