基于DMD的數(shù)字無(wú)掩模光刻成像系統(tǒng)設(shè)計(jì).pdf

1、隨著微電子學(xué)、微光學(xué)、微機(jī)械技術(shù)的迅猛發(fā)展,微細(xì)加工技術(shù)也得到了不斷的提高和改進(jìn)。微光學(xué)元件也在現(xiàn)在通訊、軍事應(yīng)用、空間技術(shù)、超精加工、信息處理、生物醫(yī)學(xué)以及娛樂(lè)消費(fèi)等眾多領(lǐng)域中得到廣泛應(yīng)用。這使得與微光學(xué)息息相關(guān)的設(shè)計(jì)、制作及應(yīng)用技術(shù)也得到了越來(lái)越多的重視。 微光學(xué)在設(shè)計(jì)理論與制作方法上已有了很大的發(fā)展,為了進(jìn)一步擴(kuò)大微光學(xué)元件的應(yīng)用領(lǐng)域,對(duì)其制作方法也提出了更多更高的要求。因此,研究便捷、有效、實(shí)時(shí)、靈活的微光學(xué)元件的制作方

2、法仍然是目前國(guó)內(nèi)外微光學(xué)領(lǐng)域的一個(gè)極為重要的研究方向。本論文設(shè)計(jì)了一個(gè)基于DMD的數(shù)字無(wú)掩模光刻成像系統(tǒng),對(duì)實(shí)驗(yàn)中的影響因素及系統(tǒng)中引入的誤差因素進(jìn)行了詳細(xì)的分析,并提出了相應(yīng)的補(bǔ)償方法及解決方法。其主要工作如下： 第一、在分析目前光刻工藝發(fā)展?fàn)顩r的基礎(chǔ)上,論證了設(shè)計(jì)數(shù)字無(wú)掩模光刻系統(tǒng)的必要性及緊迫性。通過(guò)對(duì)DMD芯片的深入分析,獲取設(shè)計(jì)中需應(yīng)用的原理及關(guān)鍵參數(shù)。 第二、在學(xué)習(xí)衍射、折射光學(xué)原理的基礎(chǔ)上,提出了三種設(shè)計(jì)基