提高三氧化鎢和二氧化鈦光（電）催化活性的研究.pdf

1、浙江大學理學院博士學位論文提高三氧化鎢和二氧化鈦光（電）催化活性的研究姓名：程小芳申請學位級別：博士專業(yè)：化學指導教師：曹楚南冷文華20080401摘要行光催化(開路下)和光電催化(#lJ3n偏壓)降解，發(fā)現(xiàn)刻蝕后氟化Ti02電極的催化降解活性也大大提高。采用多種物理化學手段對電極進行表征，包括XRD、Raman光譜、SEM、XPS、UV二Ⅵs漫反射光譜、光致發(fā)光(PL)光譜等，研究了刻蝕對電極的結(jié)構(gòu)、組成、表面形貌和吸光性能的影響，同

2、時結(jié)合電化學和光電化學方法對電極的能帶結(jié)構(gòu)、界面性質(zhì)和電荷轉(zhuǎn)移動力學進行了研究，探討了氟化Ti02光催化活性提高的機理。結(jié)果表明，刻蝕后電極性能提高的主要原因有以下幾個：首先，刻蝕后電極表面形成納米多孔結(jié)構(gòu)，增大了電極表面積；其次，刻蝕后n02表面發(fā)生氟化，減少了表面態(tài)的濃度，從而減少了光生載流子復合中心的數(shù)量；最后，氟化還導致了電極能帶邊緣的負移，提高了界面電荷轉(zhuǎn)移速率常數(shù)。以熱氧化的金紅石Ti02為光陽極，研究了C1濃度和溶液pH值