2023年全國碩士研究生考試考研英語一試題真題(含答案詳解+作文范文)_第1頁
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文檔簡介

1、本論文系統(tǒng)地研究了減反射薄膜的設(shè)計、優(yōu)化與鍍制工藝。采用單純形優(yōu)化方法編制程序,完成了以K9玻璃為基底的減反射薄膜的膜系設(shè)計,并對SiO2、Ta2O5單層膜的制備工藝進行了大量的研究,獲得在可見光波段具有高透過率的SiO2/Ta2O5多層減反射薄膜樣品。 論文首先分析了減反射薄膜的應(yīng)用、發(fā)展現(xiàn)狀及展望。 在多層減反射薄膜的設(shè)計中,作者從光學(xué)薄膜理論出發(fā),利用MATLAB計算機語言,得出多層減反射膜系的設(shè)計結(jié)果及光譜特性曲

2、線。為得到更好的減反射效果,作者又根據(jù)單純形法的原理對設(shè)計膜系進行了優(yōu)化,得到一個更高透過率的多層減反射膜系,理論透過率在可見光波長范圍內(nèi)可以達到99%以上,并根據(jù)優(yōu)化的理論膜系進行了樣品膜系的制備,樣品實際透過率達到96%~97%以上,起到了光學(xué)增透的作用。 根據(jù)多層膜的優(yōu)化結(jié)果,選用折射率為1.52的K9玻璃為基底,并采用射頻反應(yīng)磁控濺射方法制備了SiO2/Ta2O5多層膜,分別研究了沉積工藝參數(shù)對單層SiO2和Ta2O5薄

3、膜光學(xué)性能的影響,為多層膜沉積奠定了基礎(chǔ)。 在工藝研究時,分別分析了氧氣含量、基片溫度、工作真空度等工藝參數(shù)對薄膜的光學(xué)性能及結(jié)構(gòu)的影響,確定了單層薄膜的沉積速率。分析結(jié)果表明氧氣含量對薄膜的折射率影響很大,Ar/O2混合反應(yīng)濺射在氧含量大于13%之后可制備出折射率符合設(shè)計要求的SiO2薄膜,而Ta2O5薄膜的氧含量需要達到80%以上?;瑴囟取⒄婵斩榷际潜∧す鈱W(xué)性能的重要影響因素。 最后,利用橢圓偏振儀測量了單層SiO

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