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文檔簡(jiǎn)介
1、光纖竊聽(tīng)與反竊聽(tīng)技術(shù)的研究是當(dāng)今各國(guó)國(guó)防科研人員的重要工作內(nèi)容。本文首先概述了光纖竊聽(tīng)技術(shù)的發(fā)展歷程和現(xiàn)狀,有針對(duì)性地分析了關(guān)于光纖竊聽(tīng)技術(shù)中的光纖耦合問(wèn)題,并詳細(xì)介紹了用于熔融拉錐耦合器的強(qiáng)耦合理論和用于氫氟酸腐蝕與邊研磨光纖耦合器的弱耦合理論;分析了耦合模方程,得出了耦合模方程的形式解,推導(dǎo)出耦合系數(shù)的計(jì)算公式。同時(shí),本文還具體介紹了上述三種傳統(tǒng)的光纖耦合器制作方法,即熔融拉錐法、氫氟酸腐蝕法和邊研磨法制作光纖耦合器的原理以及制作工
2、藝。
本文對(duì)氫氟酸腐蝕法制作光纖耦合器的反應(yīng)裝置和實(shí)驗(yàn)系統(tǒng)進(jìn)行了設(shè)計(jì),介紹了具體的實(shí)驗(yàn)過(guò)程及其注意事項(xiàng),通過(guò)對(duì)實(shí)驗(yàn)結(jié)果進(jìn)行分析總結(jié),得出泄漏光功率隨腐蝕時(shí)間的變化關(guān)系以及泄漏光功率與包層剩余厚度和腐蝕長(zhǎng)度的關(guān)系。另外,針對(duì)耦合效率低的存在問(wèn)題,提出了一種新的設(shè)計(jì)方案-整體腐蝕法。
此外,文中重點(diǎn)介紹了邊研磨光纖耦合裝置的設(shè)計(jì)方案,具體的邊研磨過(guò)程以及相關(guān)注意事項(xiàng)。通過(guò)實(shí)驗(yàn)得出損耗功率和耦合功率隨包層剩余厚度的變化曲線
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