射頻磁控濺射法制備TiO-,2-，ZnO薄膜及性質研究.pdf

1、在材料科學的各個分支中，薄膜材料科學的發(fā)展一直占據(jù)了極為重要的地位。TiO2,ZnO薄膜具有優(yōu)良的介電、壓電、氣敏和光催化等功能，在微電子、光學、傳感器和光催化等方面有著重要的應用。 分別以高純金屬鈦、鋅為靶材，氧氣為反應活性氣體，采用射頻磁控濺射法制備金屬薄膜以及以射頻磁控反應濺射法沉積金屬氧化物薄膜，對制備的金屬薄膜在不同的溫度下空氣氣氛中進行熱處理，開始反應生成各自的金屬氧化物。對以射頻反應磁控濺射法沉積金屬氧化物薄膜在馬

2、弗爐中不同溫度下加熱進行退火處理。 沉積的金屬鈦薄膜在馬弗爐中加熱，易向金紅石相的。TiO2薄膜轉變，而沉積的非晶氧化鈦薄膜在退火條件下容易向銳鈦礦相轉變。金屬鋅薄膜在馬弗爐中加熱反應后生成纖鋅礦相氧化鋅薄膜，但是薄膜表面比較疏松起翹。 采用紫外-可見分光譜測試TiO2、ZnO薄膜的透射率，研究氧氣流量、退火溫度對薄膜透射率的影響；以掃描電鏡考察氧氣流量變化對TiO2、ZnO薄膜表面形貌的影響；以拉曼光譜(Raman)和