基于原子力顯微鏡分析磁頭納米微結構的研究.pdf

1、掃描隧道顯微鏡STM(Scan Tunnel Microscopy)自1986年問世以來，經過十多年的技術改進和應用研究，STM己從實驗室走向了市場，并且從單純的STM儀器發(fā)展出了系列掃描探針顯微鏡SPM(Scanning Probe Microscopy)并完善了它的設計理論。原子力顯微鏡AFM(Atomic Force Microscopy)是在SPM的基礎上的最新發(fā)展，并憑借其納米量級的測量精度和不受樣品表面導電性限制的優(yōu)勢奠定了

2、它作為一種獨立的表面分析儀器的地位，促進了納米科技領域的高速發(fā)展，尤其在信息存儲、生物和材料學等方面的研究應用，獲得了極高的科研價值，并為這些原來的瓶頸專業(yè)開創(chuàng)了巨大的發(fā)展空間。
　　本課題是作者在近十幾年的工作中，應用AFM并結合磁頭產品生產的實際需要，對多種磁頭結構和磁性材料在納米級水平上進行了比較系統(tǒng)的分析與研究。以大量實驗的測試圖象和數(shù)據(jù)為依據(jù)，找出了對磁頭測試圖象質量影響的因素。總結出適合磁頭生產的測試條件和方法，以及磁

3、頭微觀結構對磁頭性能的影響關系。同時也系統(tǒng)地探討了為獲得高分辨的AFM掃描圖像的相關問題(如制備樣品的方法、條件等)。同時，為了滿足公司大規(guī)模生產的需要，將AFM測試過程標準化、文件化，為公司的生產和技術改進提供了有力的支持。
　　本論文首先簡述了AFM的發(fā)展歷程；工作機理；成像原理及AFM掃描探針對磁頭產品所適合的掃描方式。其次著重分析了利用AFM在磁頭生產過程中，工序對磁頭結構的改變的測量，尤其是對磁頭納米微結構的測量，并使其