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文檔簡介
1、ZnO薄膜是一種新型的Ⅱ-Ⅵ族直接寬帶隙氧化物半導體材料。室溫下禁帶寬度為3.3eV。激子束縛能為60meV。具備了室溫下發(fā)射紫外光的必要條件,在紫外探測器、LED、LD等領域有著巨大的發(fā)展?jié)摿?;ZnO薄膜以其優(yōu)良的壓電性能、透明導電等性能在太陽能電池、壓電器件、聲表面波器件、氣敏元件等諸多領域得到廣泛應用。 本實驗采用溶膠-凝膠(Sol-Gel)工藝在普通玻璃基片上制備Al3+摻雜型ZnO薄膜。所用的溶膠是以乙二醇甲醚為溶劑,
2、醋酸鋅為氧化鋅前驅體,乙醇胺為穩(wěn)定劑,硝酸鋁為摻雜反應制得。用浸漬提拉法在基體上鍍膜,經干燥、預燒、退火,最后制備出均勻、透明的多晶ZnO摻雜薄膜。 利用XRD、SEM以及分光光度計等分析手段對薄膜進行了研究,結果顯示:所制備的薄膜為六方纖鋅礦型晶體結構,具有高c軸擇優(yōu)取向性;表面均勻、致密,薄膜材料由許多星狀晶粒組成,晶粒尺寸大約為70~100nm左右,10層膜厚度約為1μm;薄膜可見光透過率平均可達80%以上,在紫外光區(qū)有較
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