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文檔簡介
1、本文設(shè)計(jì)了一種適用于紅光高清光電存儲(chǔ)(Next-Generation Versatile Disc,簡稱NVD)光學(xué)頭的新型物鏡。要求能在約3 毫米焦長處,獲得約0.5 微米尺寸的焦斑并得到高的光能利用率。基于此,本文提出了新的全衍射光存儲(chǔ)光學(xué)頭物鏡方案,通過設(shè)計(jì)和制作純相位型的衍射光學(xué)元件(Diffractive Optical Element,簡稱DOE),實(shí)現(xiàn)大容量、高密度的光電信息存儲(chǔ)和讀取。論文的主要工作包括:(一)研究適用于
2、毫米級近場衍射聚焦的DOE 設(shè)計(jì)算法,獲得DOE的相位結(jié)構(gòu);(二)研究硅基微納光學(xué)元件的工藝技術(shù),制作原理性的全衍射DOE 物鏡器件。
由于NVD 光學(xué)頭物鏡的焦距,分布在如上所述的近場范圍內(nèi),傳統(tǒng)的DOE 設(shè)計(jì)算法如蓋師貝格-撒克斯通算法(Gerchberg-Saxton Algorithm,簡稱GS算法)已不適用。本文對GS算法進(jìn)行了改進(jìn),采用對衍射問題的求解更為精確的瑞利-索末菲(Rayleigh-Sommerfel
3、d)衍射積分變換取代菲涅耳(Fresnel)變換,并將其置于GS算法的串行迭代架構(gòu)之上。數(shù)值計(jì)算與仿真結(jié)果顯示,采用改進(jìn)后的算法所設(shè)計(jì)的DOE 物鏡,可以在所要求的范圍內(nèi)獲得所需的衍射聚焦效果。
本文所采用的DOE 物鏡制作方法也有別于傳統(tǒng)的微光學(xué)器件工藝,不需要精密復(fù)雜的套刻操作。僅通過單步光刻和相對廉價(jià)的濕法腐蝕步驟,制作具有納米特征尺度、表面相位臺(tái)階連續(xù)分布的DOE 器件。對所制器件進(jìn)行的表面形貌測試顯示,所制作的D
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