FTO-SiO-,2-復(fù)合透明導(dǎo)電薄膜的制備及性能研究.pdf_第1頁(yè)
已閱讀1頁(yè),還剩68頁(yè)未讀, 繼續(xù)免費(fèi)閱讀

下載本文檔

版權(quán)說(shuō)明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請(qǐng)進(jìn)行舉報(bào)或認(rèn)領(lǐng)

文檔簡(jiǎn)介

1、本文以SnCl2·2H2O、NH4F和TEOS為原料,采用溶膠-凝膠法制備FTO/SiO2復(fù)合透明導(dǎo)電薄膜。通過(guò)對(duì)制備薄膜各參數(shù)工藝包括FTO及SiO2溶膠的配置、基體處理、涂層方式、熱處理等的實(shí)驗(yàn)分析,利用XRD、UV-Vis以及方塊電阻測(cè)試儀等手段,以附著力測(cè)試、光電性能測(cè)試等為內(nèi)容,綜合探討了F摻雜濃度、熱處理溫度以及薄膜厚度等對(duì)薄膜晶體結(jié)構(gòu)、表面形貌及光電性能的影響。實(shí)驗(yàn)得出,SiO2溶膠的配置方案為:EtOH/TEOS/H2O

2、=4:2:1(volume ratio),PH=2-3。SnO2溶膠的配置方案為:SnO2濃度為0.4mol/L,H2O/SnCl2·2H2O=4(molratio),PH=2-3。
   FTO/SiO2薄膜的性能優(yōu)于FTO薄膜,在相同情況下FTO/SiO2薄膜的電阻值小于FTO膜,這是因?yàn)镾iO2薄膜可以適當(dāng)阻隔基體中的Na+、ca+離子在薄膜熱處理時(shí)擴(kuò)散進(jìn)入FTO膜內(nèi),防止其禁帶內(nèi)形成受主能級(jí),捕獲自由載流子,劣化薄膜導(dǎo)電

溫馨提示

  • 1. 本站所有資源如無(wú)特殊說(shuō)明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請(qǐng)下載最新的WinRAR軟件解壓。
  • 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請(qǐng)聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
  • 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁(yè)內(nèi)容里面會(huì)有圖紙預(yù)覽,若沒(méi)有圖紙預(yù)覽就沒(méi)有圖紙。
  • 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
  • 5. 眾賞文庫(kù)僅提供信息存儲(chǔ)空間,僅對(duì)用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護(hù)處理,對(duì)用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對(duì)任何下載內(nèi)容負(fù)責(zé)。
  • 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請(qǐng)與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
  • 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時(shí)也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對(duì)自己和他人造成任何形式的傷害或損失。

評(píng)論

0/150

提交評(píng)論