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文檔簡介
1、堿性清洗是新近發(fā)展起來的應用于光伏半導體行業(yè)的一種清洗工藝,利用堿性清洗液的皂化作用,乳化作用,配合超聲波和機械運動,表面活性劑的使用可以獲得好的清洗效果。
本課題采用石墨爐原子吸收光譜(GFAAS)分析測量硅片表面金屬含量,驗證堿性清洗工藝對清除Cu、Fe 等重金屬沾污的有效性。
堿性清洗液在清洗過程中可以較長時間保持一定的pH 值,是因為硅片表面硅元素和清洗液中OH-發(fā)生雙向的化學反應,反應平衡后,pH
2、值維持在11.5-12范圍內(nèi)不會持續(xù)下降。
在堿性清洗液中添加表面活性劑,與不添加表面活性劑的清洗效果對比,前者可以明顯減少硅片表面金屬沉積,實驗表明,添加表面活性劑清洗后硅片表面Cu、Fe 含量都在控制限之內(nèi),過程穩(wěn)定,沒有變異點。其中Cu 含量均值為6.16×1013atoms/cm2,F(xiàn)e 含量均值為2.853×1013atoms/cm2。
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