太陽能級硅片加工過程中重金屬雜質(zhì)的沾污及其清除機理的研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、堿性清洗是新近發(fā)展起來的應用于光伏半導體行業(yè)的一種清洗工藝，利用堿性清洗液的皂化作用，乳化作用，配合超聲波和機械運動，表面活性劑的使用可以獲得好的清洗效果。
　　 本課題采用石墨爐原子吸收光譜(GFAAS)分析測量硅片表面金屬含量，驗證堿性清洗工藝對清除Cu、Fe 等重金屬沾污的有效性。
　　 堿性清洗液在清洗過程中可以較長時間保持一定的pH 值，是因為硅片表面硅元素和清洗液中OH-發(fā)生雙向的化學反應，反應平衡后，pH

2、值維持在11.5-12范圍內(nèi)不會持續(xù)下降。
　　 在堿性清洗液中添加表面活性劑，與不添加表面活性劑的清洗效果對比，前者可以明顯減少硅片表面金屬沉積，實驗表明，添加表面活性劑清洗后硅片表面Cu、Fe 含量都在控制限之內(nèi)，過程穩(wěn)定，沒有變異點。其中Cu 含量均值為6.16×1013atoms/cm2，F(xiàn)e 含量均值為2.853×1013atoms/cm2。
　　 多線切割用砂漿的重復回收利用可以顯著降低成本，使用Sysmex

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