同位素示蹤相關(guān)流量測(cè)井方法研究匯報(bào)-終

1、同位素示蹤相關(guān)流量測(cè)井方法研究,中油測(cè)井華北事業(yè)部,目錄,測(cè)井原理簡(jiǎn)介儀器的研制與開發(fā)測(cè)井施工工藝研究測(cè)井資料驗(yàn)收標(biāo)準(zhǔn)制定解釋方法研究測(cè)井實(shí)例分析顆粒同位素相關(guān)流量測(cè)井方法探索,同位素示蹤相關(guān)流量測(cè)量原理示意圖,通過特殊方法配置的放射性示蹤劑由釋放器釋放到井筒中，示蹤劑呈聚集的形式隨井液流動(dòng)。通過自然伽馬探測(cè)器時(shí)，探測(cè)器會(huì)有明顯的異常顯示，在時(shí)間、幅度的坐標(biāo)系里會(huì)有明顯的波形變化。通過記錄同位素峰值的時(shí)間和位置，可以計(jì)算出

2、兩峰值之間流體的流速，也就可以計(jì)算出該處流體的流量。,一、測(cè)井原理簡(jiǎn)介,相關(guān)流量釋放器機(jī)械及電路設(shè)計(jì),2.1下井儀器研制,二、儀器的研制與開發(fā),同位素示蹤相關(guān)流量釋放器主要包括電路部分、馬達(dá)、滾珠絲杠、儲(chǔ)液筒、推拉桿、釋放嘴等幾大部分。此儀器的機(jī)械設(shè)計(jì)難度在于儲(chǔ)液筒與推拉桿之間的密封問題。由于此儀器要與伽馬、井溫、磁定位三參數(shù)遙測(cè)組合儀配接使用。因此其工作電壓必須與此組合儀分開。吸水剖面三參數(shù)組合儀正常工作時(shí)纜頭電壓大于+55V，為了

3、避免相互影響相關(guān)流量釋放器設(shè)計(jì)工作于負(fù)電壓下。而常用的馬達(dá)工作電壓為50V左右。因此相關(guān)流量釋放器需工作在-50V以上。而且還有釋放、吸液兩種狀態(tài)，因此在電路設(shè)計(jì)上選用電磁繼電器來控制相關(guān)流量釋放器的釋放和吸液。,儀器結(jié)構(gòu)示意圖及主要技術(shù)指標(biāo),a 釋放電壓為：-50V，電流約為100mA；b 吸液電壓為：-70V，電流約為100mA；c 釋放與吸液轉(zhuǎn)換電壓約為：-58～-60V；d 釋放與吸液時(shí)間約為：20-30s；e

4、 耐壓：60MPa；f 耐溫：150℃。g 流量范圍及精度為3-200m3/d和±7%。,儀器結(jié)構(gòu)示意圖,主要技術(shù)指標(biāo),相關(guān)流量測(cè)井儀從上至下依次為馬籠頭、扶正器、加重、釋放器、扶正器、磁定位、溫度、近伽馬探測(cè)器、遠(yuǎn)伽馬探測(cè)器。,2.2地面系統(tǒng)測(cè)井軟件的改進(jìn),測(cè)井軟件由原來的上測(cè)、下測(cè)功能增加了時(shí)間+深度驅(qū)動(dòng)的測(cè)井程序；增加了一條深度曲線和時(shí)間軸。在測(cè)井施工過程中可以方便的計(jì)算出伽馬曲線峰值的深度和時(shí)間；為了在現(xiàn)場(chǎng)

5、直觀識(shí)別伽馬曲線峰值，軟件改變?cè)O(shè)定的固定1500m/h的出圖速度為600m/h 、1500m/h檔的出圖速度，曲線形狀明顯改觀；增加了實(shí)時(shí)功能，在測(cè)井過程中用鼠標(biāo)任意點(diǎn)擊曲線某點(diǎn)可以實(shí)時(shí)顯示曲線所在位置的深度及測(cè)量時(shí)間。,測(cè)井軟件界面改進(jìn)圖,3.1放射性示蹤液的研制,載體必須滿足以下幾點(diǎn)要求：載體要有較強(qiáng)的吸附性，能夠牢固吸附放射性同位素離子，在高壓清水沖洗情況下不發(fā)生離散現(xiàn)象；載體要有合適的比重和較好的懸浮性；保證在水中不發(fā)生

6、明顯的沉降和上浮。載體要有足夠的耐壓強(qiáng)度。,三、測(cè)井施工工藝研究,3.2放射性示蹤液的研制,利用特殊聚合物與食用堿按一定比例混合制成了膠狀液體做為同位素載體，與同位素131Ba或131I均勻混合，制成各項(xiàng)指標(biāo)達(dá)到測(cè)井要求的同位素示蹤劑。技術(shù)指標(biāo)： 比重：1.0-1.02g/cm3； 靜水中的下沉速度：<5mm/s， 同位素脫附率：<10%。 適用范圍： 測(cè)量注入量3m3/d以上的注水井。測(cè)井成功率達(dá)到

7、了97%。,3.3施工工藝研究,施工按以下步驟逐步進(jìn)行：對(duì)于籠統(tǒng)注水井測(cè)井之前最好能提前關(guān)井，可提高測(cè)井時(shí)效。正確連接地面防噴管線，把同位素示蹤劑吸入到釋放器中，將儀器放入防噴管，下放儀器。當(dāng)儀器下到離測(cè)量井段以上50m時(shí)停車，用600m/h速度下放測(cè)井，記錄關(guān)井靜溫。儀器下到遇阻位置后，上測(cè)自然伽馬基線進(jìn)行深度校正。打開注水閥門，待注水穩(wěn)定后，在規(guī)定位置釋放同位素，通過上下追蹤同位素的峰值。計(jì)量溢流液收集筒中液體的體積，計(jì)算溢

8、流量。追蹤測(cè)井完后，用600m/h的速度上測(cè)，記錄下井內(nèi)的流溫和同位素曲線，觀察示蹤劑總體分布情況。將儀器安全提至防噴管內(nèi)，拆除防噴裝置，清除廢棄物品，使井場(chǎng)恢復(fù)原狀。,3.3施工工藝研究,示蹤劑的釋放：根據(jù)井身結(jié)構(gòu)按以下原則進(jìn)行：釋放同位素示蹤劑應(yīng)靠近喇叭口、水咀等分水點(diǎn)。按水流分流位置自下而上逐點(diǎn)釋放并進(jìn)行追蹤。射孔層在有關(guān)口，應(yīng)盡量分開測(cè)量，掌握由下而上的原則控制釋放點(diǎn)。在同一釋放點(diǎn)進(jìn)行多次釋放，釋放時(shí)間間隔應(yīng)觀察前次

9、釋放同位素的運(yùn)移情況后，按兩次追蹤相互不影響的原則控制，原則上兩次間隔應(yīng)大于1.5小時(shí)。這樣可避免前次釋放的示蹤劑對(duì)再次釋放測(cè)量的影響。同位素釋放量應(yīng)盡量控制釋放時(shí)間，避免釋放時(shí)間過長(zhǎng)造成同位素成片狀分布。,3.3施工工藝研究,同位素示蹤劑追蹤測(cè)量：在釋放完同位素后應(yīng)在第一時(shí)間進(jìn)行上、下測(cè)追蹤每次釋放后盡量將追蹤示蹤劑的過程記錄在一個(gè)文件上。分段記錄的應(yīng)減少兩個(gè)文件記錄的時(shí)間間隔。測(cè)速應(yīng)在可能情況下盡量提高測(cè)速，最高測(cè)速不得超過

10、5000m/h，避免因測(cè)速太快造成GR曲線的失真。如發(fā)生兩射孔層層間上、下測(cè)均未追蹤到示蹤劑峰值現(xiàn)象，應(yīng)再次釋放，直到追蹤到為止。如層間太近，可考慮合層解釋。,4.1刻度要求參照同位素吸水剖面測(cè)井驗(yàn)收標(biāo)準(zhǔn)。4.2測(cè)速要求錄取自然伽馬基線和溫度曲線測(cè)速不得超過600m/h。（參照同位素測(cè)井驗(yàn)收標(biāo)準(zhǔn)）追蹤曲線錄取應(yīng)控制測(cè)速在2500m/h以上，根據(jù)注水量大小可適當(dāng)提高測(cè)速，最高測(cè)速不得超過5000m/h。4.3深度比例控制自然

11、伽馬基線及溫度曲線測(cè)量深度比例為1:200或1:500。（參照同位素測(cè)井驗(yàn)收標(biāo)準(zhǔn)）追蹤曲線深度比例為1:500。,四、測(cè)井資料驗(yàn)收標(biāo)準(zhǔn)制定,4.4全井資料質(zhì)量控制,測(cè)量總流量與泵站流量誤差小于10%，若誤差較大，必須查明原因。在測(cè)量曲線過程中流量變化范圍控制在10%以內(nèi)，如超出標(biāo)準(zhǔn)則所測(cè)曲線無效。目的層位測(cè)量：A、每次釋放同位素示蹤劑后，錄取追蹤曲線應(yīng)盡量保證測(cè)量的連續(xù)性，一個(gè)文件的紀(jì)錄不得少于相同測(cè)量方向的3個(gè)峰值。B、紀(jì)錄峰

12、值幅度應(yīng)大于本底數(shù)值5倍以上，且紀(jì)錄峰值清晰可辨。在各吸水層間均要測(cè)得追蹤峰值，如未測(cè)到則應(yīng)重復(fù)測(cè)量。C、在同一井段內(nèi)兩次釋放時(shí)間間隔應(yīng)在3小時(shí)以上，避免上次釋放同位素對(duì)本次測(cè)量的影響。D、根據(jù)不同管柱條件采取不同的施工方法。,4.4全井資料質(zhì)量控制,籠統(tǒng)注水：油管口在吸水層以上或以下時(shí)按正常測(cè)井施工，如在吸水層中部時(shí)參照分層配注相關(guān)要求測(cè)量。分層配注：每個(gè)分層配注水器均進(jìn)行單獨(dú)釋放測(cè)量，如分層配水器上下吸水層距離較遠(yuǎn)時(shí)應(yīng)分兩次釋

13、放測(cè)量，兩次釋放時(shí)間間隔在1.5小時(shí)以上。總流量：A、原則上在分層吸水測(cè)取完成后進(jìn)行，要求逆水流測(cè)量方向測(cè)取的總流量峰值必須達(dá)3個(gè)以上，必要時(shí)從井口開始測(cè)量?？偭髁繙y(cè)取時(shí)流量應(yīng)和正常測(cè)取分層注入量時(shí)的流量一致，誤差不得大于10%。若誤差較大，必須查明原因。B、總流量重復(fù)測(cè)量，若兩次重復(fù)測(cè)量流量相差較大，必須測(cè)量第三次，進(jìn)一步確認(rèn)，若三次重復(fù)測(cè)量流量差別較大必須查明原因。,五、解釋方法研究,流體速度法 靜止定點(diǎn)測(cè)

14、量法 追蹤法示蹤劑損耗法雙脈沖示蹤速度法,速度法是目前常用的方法，它可以克服損耗法的局限。測(cè)量時(shí)根據(jù)井況安裝儀器，在注入井中，探測(cè)器安裝在釋放器下部。為了防止同位素示蹤相關(guān)流量釋放器將示蹤劑釋放在井壁上，應(yīng)加裝扶正器，使儀器居中。速度法測(cè)量時(shí)，儀器停在兩個(gè)射孔層之間向井筒中釋放示蹤劑，然后測(cè)量示蹤劑在兩個(gè)點(diǎn)間的傳遞所需要的時(shí)間，一般指兩個(gè)探測(cè)器間或釋放器至探測(cè)器間的時(shí)間，由此確定每一個(gè)解釋層的視流速。根據(jù)測(cè)量方

15、式，速度法包括兩種方法，一種是靜止測(cè)量法；另一種是追蹤法 。,5.1.流體速度法,單探頭和雙探頭儀器都可以采用這一方法。測(cè)量時(shí)，儀器靜止停在夾層中，釋放示蹤劑。對(duì)于單探頭示蹤流量計(jì)，記錄釋放器至探頭示蹤劑的時(shí)間，可以得到流體視流速為： 式中L1----釋放器至探頭的距離； tl----示蹤劑隨流體通過這兩點(diǎn)間的時(shí)間。如果采用雙伽馬射線探頭，視流速va為： 式中L2--

16、--兩個(gè)探頭間的距離； t2----示蹤劑峰通過兩個(gè)探頭所用的時(shí)間。,5.1.1.靜止測(cè)量法,雙探測(cè)器示蹤相關(guān)靜止法測(cè)井示意圖,同位素示蹤相關(guān)流量測(cè)井解釋方法是，從測(cè)井圖上讀出相鄰兩條曲線峰值的間距 △ H1、 △ H 2、 △ H3……，與對(duì)應(yīng)的時(shí)間間隔△ tl、 △ t2、 △ t3……相除，得到各個(gè)視流速，即： 式中△ H---兩次測(cè)量示蹤劑位移的距離(峰值的深度差)；

17、 △ t---示蹤劑位移所需的時(shí)； N--- △ t、△ H 的取值次數(shù)。,5.1.2.追蹤法,5.1.2.1.單探頭追蹤法,,5.1.2.2.雙探頭追蹤法,雙探頭一次追蹤示意圖,在單探頭連續(xù)追蹤時(shí)，若不能準(zhǔn)確記錄出起止時(shí)間，利用雙探頭放慢測(cè)速上行或下行連續(xù)測(cè)量一次，根據(jù)電纜速度和兩探頭之間的距離就能計(jì)算出流體速度。上(下)行測(cè)量追蹤原理示意圖，虛線、實(shí)線分別為探頭G1、G2測(cè)量的峰值。下行時(shí)

18、(與流動(dòng)方向一致)計(jì)算視流速的公式為：,上行時(shí)(與流速反向)計(jì)算視流速的公式為： 式中△ H----兩個(gè)峰值間的距離； v1 ----電纜速度; L----兩個(gè)探頭間的距離。,雙探頭示蹤流量測(cè)井圖,視流速va確定后，即可確定各解釋層的流量Qi 式中D------套管內(nèi)徑； d------儀器外徑； Cv------速度剖面校正

19、系數(shù)，Cv的確定取決于峰值的確定及示蹤劑在流體中的分布狀態(tài)。,如何讀取兩個(gè)峰間的H及t值將直接影響va的精度，常見的確定深度位移(△ H)及時(shí)間差(t)的方法如圖所示。常用方法是讀取兩個(gè)伽馬峰值之間的時(shí)間差tp-p及相應(yīng)的深度差。 △ tp-p代表了流動(dòng)的平均時(shí)間，由此求取的視流速可視為平均速度(vm)，即此時(shí)認(rèn)為Cv為1.0； △ t上表示兩個(gè)峰間切線交點(diǎn)間的時(shí)間差； △ t下表示伽馬基線(伽馬原始曲線視為直線)與切線交點(diǎn)間的時(shí)間差；

20、 △ tl-l表示示蹤劑前緣到達(dá)的時(shí)間，該點(diǎn)是伽馬射線開始偏離伽馬基線，即峰值曲線與伽馬基線的交點(diǎn)。在注水井中， △ tp- p與△ t上相近，平均誤差為1.08%； △ tl-l與△ t下相近。平均誤差為1.03%。計(jì)算表明用tl-l計(jì)算流量的相對(duì)誤差為2.9%，用△ tp-p計(jì)算流量的平均誤差為2.6%。,5.1.2.3.峰值的讀取方法及Cv的確定,各種時(shí)差示意圖,速度分析方法的基礎(chǔ)是井筒的橫截面積不變和兩個(gè)探頭間的流量不變，即在兩

21、個(gè)探頭間沒有漏失。井徑變化未知時(shí)，不能采用速度法(如裸眼完井)。如果通過井徑測(cè)井測(cè)得了井徑變化曲線，則仍然可以采用這一方法。 若井筒突然擴(kuò)大，流體從小徑井段流向擴(kuò)徑井段時(shí)會(huì)發(fā)生釋放效應(yīng)。流體剛進(jìn)入擴(kuò)徑井段時(shí)，流速仍然很高，而從擴(kuò)徑井段流向直徑變小的井段時(shí)，示蹤相關(guān)流量測(cè)井則不受影響。,5.1.3.影晌示蹤相關(guān)流量計(jì)測(cè)量精度的因素,5.1.3.1.套管管徑變化,示蹤劑速度超過測(cè)量速度的百分比圖,采用雙探頭示蹤相關(guān)流量計(jì)時(shí)，如果測(cè)量時(shí)兩個(gè)

22、探頭間存在漏失，則會(huì)存在一些誤差。下圖是可能存在的兩種漏失情況。,5.1.3.2.兩個(gè)探頭間存在流體損失,由于兩探測(cè)器有流體損失而導(dǎo)致速度推測(cè)深度誤差,示蹤劑的三種釋放軌跡,5.1.3.3.示蹤劑釋放,速度法和示蹤劑損耗測(cè)井都受示蹤劑在井內(nèi)釋放情況的影響。研究表明，影響示蹤劑釋放的因素有四個(gè)： a、 釋放速度； b、 釋放時(shí)間； c、 釋放口尺寸； d、 流體速度。因此，

23、控制好釋放時(shí)間、釋放速度及釋放口尺寸可以有效提高同位素示蹤相關(guān)流量測(cè)井的質(zhì)量。,示蹤劑消耗測(cè)井示意圖,5.2示蹤劑損耗法,示蹤劑隨注入流體依次進(jìn)入各射孔層。每進(jìn)入一次，示蹤劑隨進(jìn)入量 (吸入量)的多少損失一些，井筒流體的放射性強(qiáng)度因此隨之減弱。記錄井筒內(nèi)的伽馬射線強(qiáng)度，直至示蹤劑停止或消失，測(cè)井曲線如圖所示。圖中顯示，隨著示蹤劑向井底或最后一個(gè)射孔層頂(底)部的移動(dòng)及流失，伽馬射線強(qiáng)度依次減弱。,5.2.1.面積法,面積法解釋示意圖,在

24、追蹤過程中，由于所用的活化液并非原來的同位素顆粒，可隨流體進(jìn)入到地層深處，伽馬探測(cè)器在層間追蹤測(cè)得的異常幅值為剩余的活化液強(qiáng)度，因而在管徑不發(fā)生不可知變化的情況下，根據(jù)各層間追蹤的異常幅值利用同位素示蹤相關(guān)流量測(cè)井的面積差值法進(jìn)行相對(duì)吸水量的計(jì)算。面積法的依據(jù)是示蹤相關(guān)流量曲線與自然伽馬基線所形成面積與流量大小成正比關(guān)系，若該面積通過某一射孔層減少30%，則認(rèn)為射孔層內(nèi)進(jìn)入了30%的流體。,5.1.2.面積三角法,對(duì)示蹤劑損耗測(cè)井進(jìn)行

25、快速直觀解釋的另一種方法叫面積三角形法，即求示蹤劑曲線的雙邊與底部直線組成的三角形的面積，用這一面積近似表示示蹤劑的面積。與前面的面積比較，發(fā)現(xiàn)有一定的誤差，因此面積三角法只適用于粗略了解流動(dòng)剖面。這里就不再更多的介紹 。,5.1.3.示蹤損耗法測(cè)量的局限,測(cè)井結(jié)果取決于測(cè)得的曲線面積依賴于測(cè)量時(shí)示蹤劑是靠近儀器，還是靠近井壁。盡管混合不均只影響最初的幾次測(cè)量，但由于流動(dòng)剖面是以初始面積為標(biāo)準(zhǔn)，因此會(huì)產(chǎn)生誤差。深度分辨率差是第二個(gè)局限

26、。示蹤劑在完成一次測(cè)井時(shí)約要移動(dòng)一定的距離。因此深度分辨率較低，一旦示蹤劑的部分恰好對(duì)著吸水層，則解釋結(jié)果會(huì)出現(xiàn)較大誤差。 第三個(gè)局限是測(cè)井速度的影響。如圖所示，當(dāng)示蹤劑從上向下運(yùn)動(dòng)，儀器自下而上運(yùn)動(dòng)時(shí)所測(cè)的示蹤劑長(zhǎng)度比實(shí)際長(zhǎng)度短，即二者的面積不同。,儀器運(yùn)動(dòng)引起的示蹤劑變形,井徑發(fā)生變化時(shí)，速度法的誤差較大，為了克服這一局限，我們提出了雙脈沖速度法。測(cè)井時(shí)，在全流量層釋放兩個(gè)同位素示蹤劑。釋放可用兩個(gè)釋放器，也可以用一個(gè)釋放器先發(fā)射

27、一個(gè)示蹤劑，隨后再發(fā)射第二個(gè)，隨后用伽馬射線探測(cè)器穿過這些示蹤劑確定兩脈沖間的間距。然后用類似示蹤劑損耗法進(jìn)行測(cè)井。隨著兩個(gè)示蹤劑沿井筒下行，所測(cè)得的兩個(gè)示蹤劑脈沖間的距離是深度的函數(shù)。井內(nèi)任意點(diǎn)的流量可表示為： 式中Q0、L0----總流量的體積流量和初始峰間距； Aw0、Awi----總流量和任意深度的套管截面； Qi、Li----任意深度的流量和間距。,5.3.雙脈沖示蹤速度法的研

28、究,,雙脈沖同位素示蹤相關(guān)流量測(cè)井,六、測(cè)井實(shí)例分析,以西37-8x井為實(shí)例，該井為籠統(tǒng)注水井，油管口在所有射孔層以下，該井同位素污染嚴(yán)重，受同位素測(cè)井方法的限制，用同位素測(cè)井無法了解本井的吸水情況。后改測(cè)同位素示蹤相關(guān)流量方法測(cè)井，從流量曲線反映，各吸水層上下流量變化明顯，同位素沾污對(duì)該測(cè)井方法無影響。如圖所示，為該井相關(guān)流量成果圖。,西柳10-46井同位素測(cè)井和相關(guān)流量測(cè)井對(duì)比。如圖6-3所示，同位素測(cè)井反映該井存在較嚴(yán)重的同位素污

29、染，在第19、20號(hào)層有明顯的同位素異常顯示，但在相關(guān)流量測(cè)井時(shí)發(fā)現(xiàn)在這兩層上下流量無明顯的變化，分析認(rèn)為：這兩層上的同位素異常是由于同位素在上移過程中，同位素在射孔孔眼上沾掛或路徑沾污導(dǎo)致的。另外，在第17層下部同位素異常并未正對(duì)層位，在處理時(shí)只能當(dāng)沾污處理，造成相對(duì)吸水量降低；相關(guān)流量測(cè)井明顯反映該層流量變化較大，為本井主要吸水層。第16號(hào)層同位素測(cè)井異常幅度較低，按此計(jì)算第16層吸水量較少；相關(guān)流量測(cè)井反映該層吸水量比同位素測(cè)井

30、反映的吸水量大，分析認(rèn)為是由于同位素進(jìn)層或同位素路徑沾污太大，造成同位素?zé)o法按其吸水量分配到層。由此反映利用相關(guān)流量測(cè)井在同位素污染嚴(yán)重或同位素進(jìn)層的井，可更真實(shí)的反映吸水情況。,西223井同位素測(cè)井和相關(guān)流量測(cè)井對(duì)比。如圖所示，同位素測(cè)井反映該井存在較嚴(yán)重的同位素污染和下沉現(xiàn)象，在補(bǔ)1層有明顯的同位素異常顯示，相對(duì)吸水量81.25%，但相關(guān)流量測(cè)井計(jì)算出來的該層相對(duì)吸水量16.86%，分析認(rèn)為：這兩層上的同位素異常是由于同位素在移動(dòng)過

31、程中，同位素在射孔孔眼上沾掛或路徑沾污導(dǎo)致的。由此反映在同位素污染嚴(yán)重的井利用同位素示蹤相關(guān)流量測(cè)井可更真實(shí)的反映吸水情況。,七、顆粒同位素相關(guān)流量測(cè)井方法探索,測(cè)井時(shí)一次性釋放同位素顆粒，按相關(guān)流量測(cè)井方法的測(cè)量方式進(jìn)行追蹤測(cè)量。待同位素運(yùn)移基本達(dá)到穩(wěn)定后再連續(xù)測(cè)量同位素及井溫曲線。由于顆粒狀同位素釋放方式及釋放后形成的懸濁液井段比較長(zhǎng)，因而，這里追蹤主要是通過動(dòng)態(tài)跟蹤測(cè)量同位素運(yùn)移前沿實(shí)現(xiàn)對(duì)速度的追蹤。,顆粒同位素相關(guān)流量測(cè)井特點(diǎn)

32、,綜合了同位素測(cè)井和相關(guān)流量測(cè)井優(yōu)勢(shì)，可以對(duì)井內(nèi)流體的流動(dòng)狀態(tài)實(shí)施動(dòng)態(tài)監(jiān)測(cè)，兩種測(cè)井方法相互驗(yàn)證，提高了資料的準(zhǔn)確性?？蓽?zhǔn)確判斷油管內(nèi)的流速，對(duì)測(cè)井施工及資料解釋起到指導(dǎo)作用。對(duì)同位素測(cè)井粘污校正起到指導(dǎo)作用。結(jié)合同位素及井溫曲線可準(zhǔn)確判斷單層的吸水情況。避免同位素進(jìn)層和粘污造成的影響。,間169井全井段對(duì)應(yīng)層位處有較強(qiáng)的同位素粘污，對(duì)層位劃分影響較大，通過相關(guān)流量追蹤測(cè)井證實(shí)，下部同位素異常均為路徑粘污，因而提高了資料質(zhì)量。

33、該井通過流溫資料分析，主要吸水層也是在18號(hào)層。,楚29-70井 本井除部分油管接箍粘污外，并無其它粘污現(xiàn)象。 相關(guān)流量測(cè)井與同位素處理剖面基本一致，根據(jù)同位素曲線反映，在本井第12號(hào)層有同位素進(jìn)層現(xiàn)象。 由此說明相關(guān)流量測(cè)井資料真實(shí)可信。,泉241-29井該井在油管內(nèi)通過相關(guān)流量測(cè)井計(jì)算的流量約為12m3/d，井口流量45m3/d，由此推斷釋放點(diǎn)以上油套之間有竄通現(xiàn)象或本井在測(cè)井時(shí)注水本來就不大。通過同位

34、素曲線和相關(guān)流量曲線反映，本井自釋放點(diǎn)以下注入水均到第20層內(nèi)。,強(qiáng)2-2井該井底部有明顯的同位素粘污，影響了下部41號(hào)層的解釋，通過相關(guān)流量方法計(jì)算證實(shí)，在粘污段以上，其流量與油管內(nèi)的流量基本相同，證明該層并不吸水。,上部同位素粘污較小，通過相關(guān)流量證實(shí)，不影響同位素正常解釋。,文119-8井通過流溫和靜溫曲線可以清楚反映該井主要吸水層為第10號(hào)層，但該井下部同位素污染已經(jīng)嚴(yán)重影響到同位素的解釋，通過加入相關(guān)流量方法的驗(yàn)證，有效地

35、解決了其路徑粘污的問題。該井第14、15兩層的吸水量是通過相關(guān)流量的峰值追蹤法計(jì)算得來，再返推到同位素測(cè)井剖面中。,顆粒同位素相關(guān)流量測(cè)井局限性,由于同位素釋放為一次性釋放，不能進(jìn)行多次釋放。對(duì)資料驗(yàn)證不利對(duì)層間距離太近的井，由于不能及時(shí)追蹤到層間的峰值，分層能力受到限制，但可用同位素曲線進(jìn)行補(bǔ)償。對(duì)分層配注的井受流動(dòng)狀態(tài)的影響，應(yīng)用效果受到局限。對(duì)油管內(nèi)粘污的井效果受管內(nèi)粘污的影響，對(duì)峰值判斷造成影響。對(duì)注水量較低且大部層位距