表面工程學(xué)

1、1潤(rùn)濕潤(rùn)濕：液體在固體表面鋪展的現(xiàn)象，稱(chēng)為潤(rùn)濕。P152重構(gòu)重構(gòu)：指表面原子在水平方向的周期性不同于體內(nèi)的晶面。P63真空蒸鍍：真空蒸鍍：把待鍍的基體或工件置于高真空室內(nèi)，通過(guò)加熱使蒸發(fā)材料汽化（或升華）以原子、分子或原子團(tuán)離開(kāi)熔體表面，凝聚在具有一定溫度的基片或工件表面，并冷凝成薄膜的過(guò)程稱(chēng)為真空蒸發(fā)鍍膜，簡(jiǎn)稱(chēng)蒸鍍。P2134陰極斑點(diǎn)：陰極斑點(diǎn)：一團(tuán)高溫、高壓、高運(yùn)動(dòng)的等離子體團(tuán)簇。P2315濺射鍍：濺射鍍：用高能粒子轟擊固體表面，通

2、過(guò)能量傳遞，使固體的原子或分子逸出表面并沉積在基片或工件表面形成薄膜的方法稱(chēng)為濺射鍍膜。P2216噴丸噴丸：以壓縮空氣或離心力為動(dòng)力，將石英砂、鐵砂、鋼珠或其他硬質(zhì)材料噴射或拋射材料表面，利用沖擊力和摩擦力來(lái)清理材料表面的方法。P417大顆粒：大顆粒：從陰極靶材表面噴發(fā)出的離子、電子、中性原子和液滴，噴射到正在生長(zhǎng)或沉積的工件薄膜表面而凝固形成。8物理氣相沉積物理氣相沉積：在真空條件下，以各種物理方法產(chǎn)生的原子或分子沉積在基材上，形成薄

3、膜或涂層的過(guò)程。P2139電鍍：電鍍：指在含有欲鍍金屬的鹽類(lèi)溶液中，在直流電的作用下，以被鍍基體金屬為陰極，以預(yù)鍍金屬或其它惰性導(dǎo)體為陽(yáng)極，通過(guò)電解作用在基體表面上獲得結(jié)合牢固的金屬膜的表面工程技術(shù)。P12210微弧陽(yáng)極氧化微弧陽(yáng)極氧化：11表面工程技術(shù)：表面工程技術(shù)：指為滿足特定的工程需求，使材料或零件表面具有特殊的成分、結(jié)構(gòu)和性能（或功能）的化學(xué)、物理方法與工藝。P112弛豫：弛豫：指表面附近的點(diǎn)陣常數(shù)在垂直方向上較晶體內(nèi)部發(fā)生明顯

4、的變化。P613冶金結(jié)合冶金結(jié)合：當(dāng)覆層與基體材料之間的界面結(jié)合是通過(guò)處于熔融狀態(tài)的覆層材料沿處于半熔化狀態(tài)下的固體基材表面向外凝固結(jié)晶而形成時(shí)，覆層與基材的結(jié)合就稱(chēng)為“冶金結(jié)合”P(pán)814偏析：偏析：化學(xué)組分在表面區(qū)的變化。P615表面淬火技術(shù)：表面淬火技術(shù)：采用特有的熱源將鋼鐵材料表面快速加熱到Ac3(對(duì)亞共析鋼)或者Ac1(對(duì)過(guò)共析鋼)之上，然后使其快速冷卻并發(fā)生馬氏體相變，形成表面強(qiáng)化的工藝過(guò)程。P4916熱噴涂熱噴涂：采用各種熱

5、源使涂層材料加熱熔化或半熔化，然后用高速氣體使涂層材料分散細(xì)化并高速撞擊到機(jī)體表面形成涂層的工藝過(guò)程。P9217鋁合金陽(yáng)極氧化鋁合金陽(yáng)極氧化：將鋁制件作為陽(yáng)極，其它材料（如鉛、鋁等）作為陰極置于電解池中，通上直流電，這時(shí)可以觀察到陽(yáng)極上和陰極上都有氣體析出，陽(yáng)極析出氧氣，陰極析出氫氣，而陽(yáng)極上析出的氧大部分與鋁作用生成了Al2O3膜的工藝過(guò)程。P16718化學(xué)鍍：化學(xué)鍍：又稱(chēng)為無(wú)電解鍍，指在無(wú)外加電流的狀態(tài)下，借助合適的還原劑，使鍍液中

6、的金屬離子還原成金屬，并沉積到表面的一種鍍覆方法。P14119電弧離子鍍電弧離子鍍：電弧引入離子鍍中，利用電弧把靶材電離并沉積成膜的一種離子鍍工藝。20離子注入：離子注入：高能離子轟擊零件表面，離子進(jìn)入工件表面，停留在某一深度的過(guò)程。1固相宏觀差異形成的界面有哪幾種？固相宏觀差異形成的界面有哪幾種？①冶金結(jié)合界面②擴(kuò)散結(jié)合界面③外延生長(zhǎng)界面④化學(xué)鍵結(jié)合界面⑤分子鍵結(jié)合界面⑥機(jī)械結(jié)合界面2解釋磨損概念、分類(lèi)、分析材料影響磨解釋磨損概念、分

7、類(lèi)、分析材料影響磨損性能的因素？損性能的因素？磨損概念：物體相對(duì)運(yùn)動(dòng)時(shí)，相對(duì)運(yùn)動(dòng)的表面物質(zhì)產(chǎn)生不斷損失或殘余變形。分類(lèi)：①粘著②磨粒③疲勞④微動(dòng)⑤沖蝕⑥高溫⑦氣蝕⑧腐蝕因素：①硬度②晶體結(jié)構(gòu)和晶體互溶性③高溫④環(huán)境3表面淬火技術(shù)與普通淬火技術(shù)區(qū)別？表面淬火技術(shù)與普通淬火技術(shù)區(qū)別？①提高加熱速度②提高相變點(diǎn)溫度③細(xì)化晶粒④使?jié)B碳體難以溶解，形成奧氏體不均勻區(qū)4離子注入技術(shù)的主要特點(diǎn)？離子注入技術(shù)的主要特點(diǎn)？①靶材與注入或者添加的元素不受限

8、制②注入過(guò)程不受溫度限制③注入和添加到靶材中的原子不受靶材固溶度的限制，不受擴(kuò)散系數(shù)和化學(xué)結(jié)合力的影響④可以精確控制摻雜數(shù)量、摻雜深度與位置⑤離子注入過(guò)程橫向擴(kuò)散可以忽略，深度均勻⑥直接離子注入不改變工件尺寸5熱噴涂技術(shù)中涂層形成過(guò)程？熱噴涂技術(shù)中涂層形成過(guò)程？①涂料加熱融化②融化材料被熱氣流霧化，進(jìn)一步加速形成粒子流，融化的粒子與融化的介質(zhì)發(fā)生作用③粒子在基材表面碰撞發(fā)生變形、凝固和堆積6表面工程技術(shù)的內(nèi)涵？表面工程技術(shù)的內(nèi)涵？①表面

9、改性技術(shù)②表面加工技術(shù)③表面合成材料技術(shù)④表面加工三維合成技術(shù)⑤上述幾個(gè)要點(diǎn)的組合或綜合7成相膜理論與吸附膜理論的區(qū)別？成相膜理論與吸附膜理論的區(qū)別？這兩種理論都部分反映了鈍化現(xiàn)象的本質(zhì)，然而無(wú)論哪一種理論都不能較全面、完整的解釋各種鈍化機(jī)理。這兩種理論的相同之處是都認(rèn)為由于在金屬表面生成一層極薄的鈍化膜而阻礙了金屬的溶解，而對(duì)于表涂層噴涂材料熱源基材面成膜的解釋?zhuān)瑓s各不相同。吸附理論認(rèn)為，只要形成單分子層的二維膜就能導(dǎo)致金屬產(chǎn)生鈍化；

10、而成相膜理論認(rèn)為，要使金屬得到保護(hù)（不溶解），至少要形成幾個(gè)分子厚的三維膜，而最初形成的單分子吸附膜只能減輕分子的溶解，增厚的成像膜才能達(dá)到完全鈍化。8熱噴涂原理？熱噴涂原理？熱噴涂是采用各種熱源使涂層材料加熱熔化或半熔化，然后用高速氣體使涂層材料分散細(xì)化并高速撞擊到基體表面形成涂層的工藝過(guò)程。其原理如圖所示9消除離子鍍大顆粒的方法？消除離子鍍大顆粒的方法？①降低電弧電流②采用磁過(guò)濾技術(shù)③氣體離子轟擊④降低或分離電弧10離子注入的表面強(qiáng)

11、化機(jī)理有哪些？離子注入的表面強(qiáng)化機(jī)理有哪些？①固融強(qiáng)化效應(yīng)②晶粒細(xì)化效應(yīng)③晶格損傷效應(yīng)④彌散強(qiáng)化效應(yīng)⑤晶格變換效應(yīng)⑥壓應(yīng)力效應(yīng)11電弧離子鍍技術(shù)與蒸發(fā)鍍、濺射鍍比電弧離子鍍技術(shù)與蒸發(fā)鍍、濺射鍍比有哪些優(yōu)點(diǎn)？有哪些優(yōu)點(diǎn)？①膜層與基體結(jié)合力高②均鍍能力強(qiáng)③可鍍材料廣泛④陰極離化率高⑤無(wú)固定熔池，靶材位置可任意擺放⑥膜層致密12真空在物理氣相沉積中的作用？真空在物理氣相沉積中的作用？①防止氧化②減少原子、分子間的碰撞次數(shù)③絕熱性能好④降低物質(zhì)

12、的沸點(diǎn)13熱擴(kuò)滲涂層形成的基本條件？熱擴(kuò)滲涂層形成的基本條件？①滲入元素必須能夠與基體金屬形成固溶體或金屬間化合物②欲滲元素與基材之間必須有直接接觸③被滲元素在基體金屬中要有一定的滲入速度14電弧離子鍍的真空試驗(yàn)過(guò)程？電弧離子鍍的真空試驗(yàn)過(guò)程？⑴向設(shè)備供水⑵預(yù)抽真空1~10Pa（機(jī)械泵）⑶對(duì)工件進(jìn)行預(yù)處理⑷工件放入真空室⑸關(guān)閉真空室利用擴(kuò)散泵和機(jī)械泵共同抽真空到103Pa⑹向真空室內(nèi)通入氮?dú)猗舜蜷_(kāi)氣體離子源(速流、加速電壓)⑻打開(kāi)電弧蒸