第七章 多晶體織構(gòu)的測定

1、第七章第七章多晶體織構(gòu)的測定多晶體織構(gòu)的測定【教學(xué)內(nèi)容】1織構(gòu)及其表示方法。2絲織構(gòu)指數(shù)的測定。3正極圖與反極圖的獲得與分析?！局攸c掌握內(nèi)容】1極射赤面投影法。2絲織構(gòu)指數(shù)的測定。3正極圖與反極圖的測定與分析?！玖私鈨?nèi)容】織構(gòu)的種類和表示方法。【教學(xué)難點】極射赤面投影法?！窘虒W(xué)目標(biāo)】1了解利用X射線衍射分析方法測定多晶體織構(gòu)的意義、原理和方法。2培養(yǎng)學(xué)生善于利用織構(gòu)測定方法解決實際問題的能力?！窘虒W(xué)方法】以課堂教學(xué)為主，并通過一定的習(xí)題

2、練習(xí)，使學(xué)生了解X射線衍射分析方法在多晶體形變的各種織構(gòu)的測定方法。多晶體材料在制備、合成及加工等工藝過程形成擇優(yōu)取向，即各晶粒的取向朝一個或幾個特定方向偏聚的現(xiàn)像，這種組織狀態(tài)稱為織構(gòu)織構(gòu)。如材料經(jīng)拉拔、軋制、擠壓、旋壓等壓力加工后，由于塑性變形中晶粒方位轉(zhuǎn)動、變形而形成形變織構(gòu)；退火后又產(chǎn)生不同冷加工狀態(tài)的退火織構(gòu)（或再結(jié)晶織構(gòu)）：鑄造材料具有某些晶向垂直于模壁的組織特點，電鍍、真空蒸鍍、濺射等方法制備的薄膜材料也表現(xiàn)出特殊的擇優(yōu)取

3、向。不僅金屬、在陶瓷、天然巖石、天然和人造纖維材料中都存在織構(gòu)，所以說擇優(yōu)取向在多晶材料中幾乎是無所不在的?？棙?gòu)使多晶體材料的物理、力學(xué)、化學(xué)性能發(fā)生各向異性，這種性質(zhì)有時是有害的，如冷軋鋼板的擇優(yōu)取向使用它制成的沖壓件出現(xiàn)“制耳”和厚度不均勻以致折皺的疵??；而有時又是有益的，如冷軋硅鋼片經(jīng)適當(dāng)退火得到的“高斯織構(gòu)”有利于減小磁損，織構(gòu)還可以作為一些材料的強化方法加以利用。因而測定織構(gòu)并給它一定的指標(biāo)是材料研究的一個重要方面，多處來X射

4、線衍射是揭示材料織構(gòu)特征的主要方法。近年來背散射電子衍射（EBSD）法在結(jié)構(gòu)測定上亦得到廣泛應(yīng)用。本章介紹織構(gòu)的分類以及其表達和測定方法。因要涉及晶體空間方位關(guān)系的表示，需先介紹一種特殊的投影方法——極射赤面投影法。第一節(jié)第一節(jié)極射赤面投影法極射赤面投影法極射赤面投影法：極射赤面投影法：為了在平面上表達三維晶體中晶面、晶向的方位以及它們之間的角度關(guān)系，目前最常用方法是極射赤面投影。一、極射赤面投影法的特點一、極射赤面投影法的特點極射赤面

5、投影（見圖71）法的特點如下：1被測量的晶體投影圖的基圓直徑應(yīng)與烏氏網(wǎng)相同，投影圖畫在透明紙上，將其與烏網(wǎng)疊放并中心重合。2某極點M的位置可用它的經(jīng)度（β）和緯度（α）表示（圖72a）。二極點間的夾角測定：二極點間的夾角測定：轉(zhuǎn)動投影圖，使二極點處于同一經(jīng)線大圓（包括基圓）或赤道上，二點間緯度差或赤道上經(jīng)度差即為極點間夾角，如圖73所示。3求與已知極點成等夾角的軌跡（圖74）：轉(zhuǎn)動投影圖使已知極點P位于烏氏網(wǎng)的赤道線WE上，在P點兩側(cè)求

6、出二等角距點Q、R、PQ=PR=某確定角度（如300），以QR為直徑作圓（圓心P‘），此小圓即為與P點成300角的點的軌跡。若夾角較大（500），使Q、R中之一點落于基圓之外，則可過P點作一經(jīng)線大圓，在P點二側(cè)的大圓上求出與其夾角為500的二點M、T，將其與赤道上的一點共三點求圓P“，此圓即為欲求的軌跡。若夾角為900的點F的經(jīng)線大圓NFS即為此軌跡。NFS還可視為一平面的跡線，P點為其法線的投影點（見圖74）。4極點的轉(zhuǎn)動：通過在烏氏

7、網(wǎng)上的運作，可將極點繞確定軸轉(zhuǎn)動到新的位置。轉(zhuǎn)動軸垂直于投影面，軸的投影即為基圓圓心，只需將極點P在它所在的圓周上向指定方向轉(zhuǎn)過預(yù)定有角度ψ到達P’即可（如圖75所示）。轉(zhuǎn)動軸平行于投影面：轉(zhuǎn)動軸平行于投影面：軸的投影為基圓直徑，轉(zhuǎn)動投影圖，使轉(zhuǎn)動軸與烏氏網(wǎng)的NS軸重合，待轉(zhuǎn)動的點沿它所在的緯線向指定方向轉(zhuǎn)動預(yù)定的角度（如圖76中A1→A2）若需轉(zhuǎn)至投影圖背面，則應(yīng)用不同符號標(biāo)明（如圖B1→B1’），或反向延長到基圓圓心另一側(cè)的等半徑處