第9講 冶金機(jī)電類-案例二(2012年新版)

1、案例二中芯國際集成電路制造(北京)有限公司超大規(guī)模集成電路芯片生產(chǎn)線項(xiàng)目一、項(xiàng)目工程概況與工程分析(一)項(xiàng)目背景本項(xiàng)目擬建于北京經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)內(nèi)。擬建設(shè)8英寸(2032cra)035～018gm芯片(月投片30000片)；12英寸(3048cm)先進(jìn)制程線，013—009gm芯片(月投產(chǎn)3000片)。本項(xiàng)目建設(shè)期2年(2002—2003年，實(shí)際125年)，試生產(chǎn)期2年，達(dá)產(chǎn)期4年，總投資為125億美元。(二)項(xiàng)目概況1項(xiàng)目組成本項(xiàng)目由生

2、產(chǎn)設(shè)施、動(dòng)力設(shè)施、化學(xué)品設(shè)施、氣體設(shè)施、環(huán)保設(shè)施、安全衛(wèi)生設(shè)施、消防設(shè)施、管理服務(wù)設(shè)施以及相應(yīng)的建筑物組成。芯片項(xiàng)目組成見表1。2.總平面布置廠區(qū)總平面效果見圖1.二，環(huán)境概況1地理位置廠址位于北京經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)(BDA)41、47號(hào)地塊，征地面積240030m2，其中41號(hào)地塊面積136754m2、47號(hào)地塊面積103276m’，見圖2。2環(huán)境質(zhì)量本項(xiàng)目對(duì)芯片加工類的特征空氣污染物、地下水特征污染物和土壤特征污染物進(jìn)行了監(jiān)測(cè)。環(huán)境空氣

3、監(jiān)測(cè)了氟化物、氯化氫、氨氣、氯氣、硫酸霧、非甲烷總烴共6項(xiàng)；地下水環(huán)境監(jiān)測(cè)，W、B共2項(xiàng)；土壤監(jiān)測(cè)了砷(As)、硼(B)、氟(F)和鎢(W)共4項(xiàng)。通過監(jiān)測(cè)結(jié)果可以看出環(huán)境本底較好，沒有超標(biāo)的污染項(xiàng)。3廠址選擇合理性分析由于中國與發(fā)達(dá)國家相比，在關(guān)鍵技術(shù)如軟件、集成電路和新型元器件等方面相對(duì)落后，CPU芯片和存儲(chǔ)器的設(shè)計(jì)與制造能力薄弱，電訊、通訊市場(chǎng)將是首先受到入關(guān)沖擊的領(lǐng)域之一。因此，我國的信息產(chǎn)業(yè)政策中有很重要的一條，就是中國鼓勵(lì)外

4、資進(jìn)入信息產(chǎn)業(yè)，希望信息產(chǎn)業(yè)的外商投資企業(yè)進(jìn)一步提高技術(shù)檔次，擴(kuò)大投資規(guī)模。深亞微米工藝技術(shù)已是國際上的主流生產(chǎn)技術(shù)，本項(xiàng)目的實(shí)施可以推廣在國內(nèi)微電子技術(shù)的升級(jí)發(fā)展，提高電子產(chǎn)品開發(fā)、生產(chǎn)，并會(huì)促進(jìn)我國集成電路產(chǎn)業(yè)走向國際。因此，該項(xiàng)目的性質(zhì)完全符合國家信息產(chǎn)業(yè)發(fā)展規(guī)劃和政策。本項(xiàng)目為高科技、高附加值的集成電路行業(yè)，項(xiàng)目地址位于北京市經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)內(nèi)。在北京市“十五”時(shí)期工業(yè)發(fā)展規(guī)劃的產(chǎn)業(yè)布局調(diào)整目標(biāo)中明確指出：“北京經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)：建

5、設(shè)成北京現(xiàn)代制造業(yè)的窗口基根據(jù)類比數(shù)據(jù)，化學(xué)材料在運(yùn)輸過程中，在罐裝、管道等接口處可能的極微量泄漏約為總量的005％。本評(píng)價(jià)考慮的是使用量較大的氟化氫，年使用量按52075kg／a計(jì)，泄漏量按最壞情況來考慮，為總量的08％計(jì)，可得到氟化氫極微量泄漏約為0048kg／h。2水污染源分析本項(xiàng)目水污染源主要包括生產(chǎn)廢水和生活污水。根據(jù)本項(xiàng)目的生產(chǎn)工藝和廢水水質(zhì)特征，在生產(chǎn)過程中產(chǎn)生的廢水主要可分為含氟廢水、研磨廢水(分為金屬研磨廢水、氧化研磨

6、廢水、晶背研磨廢水)、酸堿廢水(包括工藝酸堿廢水、洗滌塔廢水、純水系統(tǒng)再生廢水)和含氨廢水。此外還有純水站濃縮廢水、工藝設(shè)備冷卻水、冷凍水和冷卻塔排水，為較清潔麥水，作為回用水。廢水處理站主體部分位于CUB2一層，主要包括含氟廢水處理系統(tǒng)、酸堿廢水中和處理系統(tǒng)、污泥處理系統(tǒng)、加藥系統(tǒng)、部分廢液收集系統(tǒng)、廢水處理站控制室及部分處理設(shè)施的預(yù)留位置；另一部分位于生產(chǎn)廠房FAB4／FAB5／FAB6C的一樓，主要包括化學(xué)機(jī)械研磨廢水、芯片背面研

7、磨廢水收集及輸送設(shè)施。3固體廢物固體廢物產(chǎn)生量及其組分，詳見表2。4噪聲污染源本項(xiàng)目噪聲源污染狀況可分為兩個(gè)部分：一個(gè)為生產(chǎn)廠房(FAB4／FAB5／FAB6C)噪聲污染源；另一個(gè)為動(dòng)力設(shè)施(變電站PS2、動(dòng)力站CUB2)及其他輔助設(shè)施產(chǎn)生的噪聲污染源。噪聲污染主要在動(dòng)力房室內(nèi)，如冰水機(jī)、動(dòng)力泵及其他產(chǎn)生噪聲的動(dòng)力設(shè)備；另外柴油發(fā)電機(jī)(緊急用)、冷卻塔風(fēng)扇、空調(diào)風(fēng)扇與生產(chǎn)用的真空泵都會(huì)產(chǎn)生噪聲污染。(三)平衡分析1水平衡水平衡圖見圖5。

8、每天實(shí)際耗水量為206884m3／d，其中新鮮水(自來水)量為4500m3／d，廢水回用量為3424m3／d，循環(huán)水量為198960m3／d。純水回用率為：(2200170170)／4150=612％項(xiàng)目水復(fù)用率為：(220017017015015025050284198960)／(34241989604500)=978％2物料平衡本項(xiàng)目在生產(chǎn)過程中使用50多種化學(xué)原料，根據(jù)中芯國際集成電路制造(上海)有限公司的經(jīng)驗(yàn)，對(duì)擬建項(xiàng)目所涉及的