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文檔簡介
1、MoS2納米材料在納米科技領域已被廣泛關注,這正是由于其在納米器件技術應用上具有巨大的潛力。因此就需要解決兩個主要問題:一是如何合成納米材料,二是在應用上給予納米結構的期望。因此我將討論典型的合成方法和一些有希望的一維納米材料的應用,對這一挑戰(zhàn),在納米材料研究領域發(fā)表一些個人見解,以及個人對1D二硫化鉬的研究。最后,在目前的納米材料的基礎上,我給一些在未來的研究方向上的個人觀點。具體的研究工作如下:
在SiO2/Si基板上我們
2、能觀察到,沿著氣體流動方向上,通過化學氣相沉積(CVD)法生長的二硫化鉬納米棒的常規(guī)形態(tài)演變。它可以歸因于沿氣體流動方向上的氣態(tài)氧化鉬的濃度梯度影響著二硫化鉬晶體的平均生長速率。二硫化鉬晶體的沉積隨著氧化鉬粉末的移近,所經歷的常規(guī)形態(tài)變換和尺寸變化。它鋪平了可控生長參數(shù)CVD法的發(fā)展道路,為調諧MoS2納米棒的形態(tài)演化開辟了新的道路。
我們描述了使用化學氣相沉積(CVD)單一步驟路線的方法合成二硫化鉬納米線。通過調整CVD生長
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