2023年全國碩士研究生考試考研英語一試題真題(含答案詳解+作文范文)_第1頁
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文檔簡介

1、近幾十年來,陶瓷薄膜涂層的發(fā)展非常迅速,由于其高硬度、耐高溫、耐磨擦等性能被廣泛應(yīng)用于刀具和模具。TiAlN/CrAlN多層周期膜的結(jié)構(gòu)是TiAlN膜層和 CrAlN膜層在垂直于薄膜表面的方向上交替沉積形成的納米多層膜。TiAlN涂層具有較高的熱穩(wěn)定性,CrAlN具有較好的抗氧化性,使得 TiAlN/CrAlN薄膜在1000℃時仍具有較高的硬度。以往對 TiAlN/CrAlN薄膜研究主要集中在提高薄膜的硬度、耐高溫、耐腐蝕、抗氧化性和熱

2、穩(wěn)定性,但在 TiAlN/CrAlN薄膜的膜層結(jié)構(gòu)和膜層間的界面的研究較少。
  本文采用磁控濺射法制備了TiAlN/CrAlN、TiN/AlN納米周期膜,系統(tǒng)地研究了調(diào)制周期對薄膜的晶體結(jié)構(gòu)及膜層界面結(jié)構(gòu)的影響,研究了 Al靶功率、Ti/Cr電流、N2流量、Ar流量和負偏壓對薄膜的濺射速率、電子散射長度密度、界面粗糙度的影響。
  實驗結(jié)果表明:TiAlN、CrAlN均為面心立方結(jié)構(gòu),調(diào)制周期的變化對薄膜的晶體結(jié)構(gòu)沒有影響

3、,薄膜晶粒生長不完全,沿(200)方向擇優(yōu)生長。隨著調(diào)制周期的增大,濺射的膜層厚度與設(shè)計的膜層厚度偏差增大,粗糙度的增大使得膜層間的界面寬化,Cr靶濺射速率快,原子的能量高,擴散充分,使得CrAlN膜層界面上的TiAlN膜層的粗糙度小于TiAlN膜層界面上的CrAlN膜層的粗糙度。
  Al靶功率的增大,薄膜的濺射速率增加,Al原子增加薄膜的電子散射長度密度(SLD)減小,Al原子對基片的轟擊作用增強引起反濺射,薄膜的粗糙度增加;

4、Ti/Cr電流對膜層的厚度影響明顯,電流增大 TiAlN膜層的 SLD度顯著增加,而CrAlN膜層增加較少,TiAlN膜層粗糙度增大,CrAlN膜層膜層的粗糙度減小;N2流量增加,Ar分壓減小,膜層厚度減小,粗糙度增大,膜層結(jié)構(gòu)的清晰度降低;Ar流量增加,N2分壓減小,膜層濺射速率明顯增加,SLD增加,界面粗糙度減小;負偏壓對粗糙度影響明顯,對濺射速率影響較小,負偏壓增大,SLD小幅度增加。TiN晶體為面心立方結(jié)構(gòu),AlN晶體為密排六方

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