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文檔簡介
1、本文以2,4,6-三硝基間苯二酚(2,4,6-Trinitr'oresorcinol,又稱斯蒂酚酸)為目標降解物;采用在 TiO<,2>表面復合電子捕獲劑SnO<,2>,提高其光生電子和光生空穴的分離效率,提高光催化效率;采用在 TiO<,2>晶格摻入少量N,提高催化劑的可見光活性;以Fe<,3>O<,4>為磁核,制備磁性復合光催化劑,實現(xiàn)催化劑的磁分離;將膜分離與光催化技術有機地結合起來,組成光催化.膜分離反應器,實現(xiàn)光催化懸浮體系中
2、催化劑的回用及反應連續(xù)運行。主要研究工作結果: (1)TiO<,2>光催化懸漿體系可有效降解有毒有機污染物三硝基間苯二酚(斯蒂酚酸),在一定的紫外光強度下,TiO<,2>投加量存在最佳值,本實驗條件下最佳投加量為1g·L<'-1>;采用二元線性回歸分析可知,反應時間對于評估1n(C<,0>/C)是顯著變量;增加降解底物初始濃度,光催化降解反應速率下降;適量加入電子受體,如O<,2>、H<,2>O<,2>、Fe<'3+>、Cu<'
3、3+>和Zn<'2+>等可提高體系的降解效率;低pH有利于斯蒂酚酸的降解;斯蒂酚酸紫外掃描特征峰隨光催化反應的進行不斷降低,體系TOC去除率的變化趨勢與斯蒂酚酸的基本符合,說明斯蒂酚酸被光催化降解,體系TOC的降低是降解最終產物CO<,2>離開體系所致。 (2)采用均勻沉淀法,在TiO<,2>表面沉積SnO<,2>,制備TiO<,2>-SnO<,2>復合光催化劑,最佳制備條件為:沉淀劑NH<,4>HCO<,3>的濃度和加入速度分
4、別為1.0 mol·L<'-1>和0.2 mL·s<'-1>;Sn<'4+>濃度為0.02 mol·L<'-1>;攪拌速度200 r·min<'-1>;反應溫度20℃;TiO<,2>與SnO<,2>質量比為9:1,焙燒溫度為600℃,對50 mg·L<'-1>斯蒂酚酸的去除率達93.2%,而相同條件下,商品TiO<,2>對斯蒂酚酸的去除率為79.9%。SnO<,2>-TiO<,2>復合催化劑由銳鈦礦相TiO<,2>和四方晶型SnO<,2
5、>所組成,樣品表面的Sn/Ti原子比高于體相的Sn/Ti原子比,形成復合型SnO<,2>-TiO<,2>光催化劑;SnO<,2>的引入使復合半導體帶隙增加0.1 eV,在半導體n-p復合作用下,表面形成的Sn-O-Ti 鍵,促進光生載流子在復合半導體上的傳遞,實現(xiàn)光生電子和空穴的有效分離,提高了光催化效率。 (3)采用均勻沉淀法,制備出 N 摻雜型氧化鈦光催化劑。硫酸鈦與碳酸氫銨反應產生的沉淀,經過超聲波洗滌分離后,在氮氣氣氛下
6、經300℃焙燒,制得N摻雜氧化鈦光催化劑,在不損失紫外段催化能力的情況下,提高了催化劑的可見光活性,光吸收區(qū)發(fā)生紅移,其吸收帶邊拓展至468 nm。洗滌對于非金屬N的摻雜至關重要,經洗滌后焙燒的樣品,呈現(xiàn)特殊的黃色,實現(xiàn)了N的摻雜,未經洗滌而直接焙燒的樣品無黃色出現(xiàn)。由于非金屬N的摻雜,造成了Ti-O成鍵的變化,可能形成了N-Ti-O 的不對稱伸縮振動峰,同時摻雜的N高度分散在TiO<,2>中,并在TiO<,2>中形成N-Ti-O 網絡
7、,O原子的電子結合能減小。N摻雜催化劑中的TiO<,2>以混晶的形式存在,N的摻雜可以彌補催化劑顆粒低溫焙燒條件下在晶型上的不足,呈現(xiàn)出良好的光催化活性。 (4)以Fe<,3>O<,4>為磁核,采用機械力化學法制備 TiO<,2>/Fe<,3>O<,4>磁性復合光催化劑,其質量比為m(TiO<,2>):m(Fe<,3>O<,4>)=3:1,F(xiàn)e<'3+>離子部分取代了Ti-O-Ti網絡中的Ti<'4+>離子,形成Ti-O-Fe
8、橋氧結構。磁性復合催化劑與純TiO<,2>光催化性能接近。由于采用的球磨設備為陶瓷材料,在球磨過程中有少量SiO<,2>雜質的摻入,但并未影響催化劑的光催化性能與磁分離性能。催化劑的光催化反應為動力學一級反應。采用自制的磁分離器,對復合催化劑進行磁分離實驗,分離率可達93%左右。 (5)在光催化.膜分離反應器中,選用孔徑為0.1μm~0.2μm 的聚丙烯中空纖維微濾膜,可實現(xiàn)對粒徑為20 nm二氧化鈦能達到很好的截留效果。本實驗
9、的最佳操作壓力為0.020 MPa,在光催化反應常用的二氧化鈦濃度范圍內,催化劑濃度對膜通量的影響不大,增大曝氣量可以減緩沉積層污染,降低膜阻力,本實驗的經濟曝氣量為0.4 m<'3>·h<'-1>;當料液pH值接近二氧化鈦的等電點時,膜通量較大,pH值偏離等電點時,膜通量減??;料液中不同電解質的存在,影響TiO<,2>顆粒表面電荷性質,CaCl<,2>的加入使膜阻力減小,Na<,2>SO<,4>的加入使膜阻力增大,NaCl 的加入對膜
10、通量影響不大。膜可逆阻力是造成膜污染的主要因素,可通過控制膜抽吸壓力、合理選擇曝氣量、間歇抽吸等工藝條件減緩膜可逆污染;污染的膜依次用清水沖洗、超聲波清洗、0.5%NaOH+0.2%NaClO浸泡,0.5%HCl浸泡后可使膜通量恢復99%以上。 采用光催化.膜分離反應器降解斯蒂酚酸模擬污水,二氧化鈦濃度為1.5 g·L<'-1>,濾膜操作壓力為0.02 MPa,采用抽吸13 min,停抽2 min的運行模式,水力平均停留時間為2
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