金屬氧化物氣敏薄膜傳感元器件研究.pdf

1、隨著當前工業(yè)農(nóng)業(yè)、信息科學(xué)、環(huán)境檢測等技術(shù)的日益提高，氣敏元件應(yīng)用范圍極廣。我們已經(jīng)不滿足于現(xiàn)有氣敏元件的綜合性能，需要通過改善工藝或研制新型材料提高其綜合性能以適應(yīng)當前社會發(fā)展的巨大需求。目前流行于國內(nèi)外的TGS元件存在諸多不足，例如:氣敏層材料單一、只能進行手工操作，無法實現(xiàn)自動化集成化生產(chǎn)、靈敏度和功耗相對過高。這極大的限制對氣敏元件的探索，因此必須對現(xiàn)有氣敏元件技術(shù)進行改造。
　　本論文研究目的在于為研制出響應(yīng)時間快、長期

2、穩(wěn)定性好、成品率高的新型成熟元件提供可行性方案。本文提出了薄膜氣敏元件光刻工藝的可行方案，并對助剝膜Al剝離劑方案和助剝膜ZnO剝離劑方案進行說明。詳細描述了濺射過程機理，發(fā)現(xiàn)了濺射過程的有效區(qū)。通過對濺射離子碰撞襯底結(jié)合能Eact的估算，解釋了PAr*的存在和有關(guān)概念。并對金屬氧化物氣敏元器件的性能測試與結(jié)果分析。目的是為新一代氣敏元件提供使用參數(shù)，同時為其他功能元件的研制提供參考。氣敏元件氣敏特性曲線說明兩項與元件性能相關(guān)內(nèi)容及元件