鎳、磷、硼基合金化學(xué)沉積規(guī)律及應(yīng)用研究.pdf

1、該研究工作在開展對Ni-P二元合金沉積規(guī)律及三元合金體系的穩(wěn)定性及鍍層的結(jié)構(gòu)研究的基礎(chǔ)上,在一定的溫度及堿性體系下,采用化學(xué)鍍法制備了至今未見有報導(dǎo)的Ni-In-B元合金鍍層及Ni-Co-In-B四元合金鍍層,并探討了其沉積規(guī)律,以期獲得制備合金電極的最佳工藝條件.該研究論文的主要內(nèi)容如下:(1)基于過去工作中對化學(xué)鍍Ni-P工藝及鍍層性能的研究,進(jìn)一步從理論上探討Ni-P化學(xué)沉積的機(jī)理.(2)通過在Ni-P鍍液中引入不同濃度的硫酸銅,

2、考察cu和Ni-P的化學(xué)共沉積對鍍層結(jié)構(gòu)及熱穩(wěn)定性的影響.(3)考察了鍍液成份及工藝條件對鍍層沉積速度的影響,介紹了一種穩(wěn)定性高、沉積速度快的酸性條件下化學(xué)鍍Ni-B合金的最佳鍍液組成和工藝條件.(4)采用硼氫化物為還原劑,得到硼的過飽和固溶體與非晶態(tài)混合鍍態(tài)組織,考察了各種熱處理工藝對該組織轉(zhuǎn)變機(jī)制及性能的影響.(5)以甲酸為絡(luò)合劑,以次亞磷酸鈉和硼氫化鈉為還原劑化學(xué)沉積出不同含量的Ni-p-b鍍層,并對酸性化學(xué)鍍Ni-P-B合金溶液