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1、阻變隨機(jī)存儲(chǔ)器(RRAM)具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、擦寫(xiě)速度快、功耗低、集成度髙、與傳統(tǒng)半導(dǎo)體工藝的兼容性好等優(yōu)點(diǎn),得到人們的廣泛關(guān)注。隨著柔性電子技術(shù)的迅速發(fā)展,對(duì)柔性阻變存儲(chǔ)器的研究也引起了人們的重視。因?yàn)榇蠖鄶?shù)柔性基板不能經(jīng)受較高的退火溫度,因此采用低溫加工的方法必將在柔性器件領(lǐng)域具有重要應(yīng)用前景。本研究圍繞這一問(wèn)題展開(kāi),采用獨(dú)特的深紫外輻照技術(shù),對(duì)TiO2和ZrO2兩種常用的阻變薄膜的低溫制備及器件性能進(jìn)行了研究。
本論文中主要通
2、過(guò)改變工藝參數(shù)、彎曲半徑和彎曲次數(shù)對(duì)TiO2和ZrO2柔性阻變存儲(chǔ)器的電流-電壓(I-V)曲線、高阻態(tài)和低阻態(tài)的導(dǎo)電機(jī)制、保持特性和循環(huán)特性進(jìn)行了研究。同時(shí),研究了TiO2和ZrO2薄膜的微細(xì)加工以及微細(xì)圖形化柔性阻變存儲(chǔ)器的電學(xué)特性。獲得的結(jié)果如下:
?。?)150℃,3h的深紫外輻照條件下可以獲得雙極電阻轉(zhuǎn)變的Pt/TiO2/ITO器件,器件的開(kāi)關(guān)比為103,室溫下的保持時(shí)間超過(guò)104s,循環(huán)次數(shù)超過(guò)600次,器件在低阻態(tài)的
3、導(dǎo)電機(jī)制為歐姆傳導(dǎo),在高阻態(tài)的導(dǎo)電機(jī)制為空間電荷限制電流(SCLC)效應(yīng);
?。?)在150℃下深紫外輻照3h,獲得雙極電阻轉(zhuǎn)變的Pt/TiO2/ITO/PET器件,開(kāi)關(guān)比為103,不同彎曲半徑和彎曲次數(shù)下器件的保持特性和循環(huán)特性無(wú)明顯衰退;
?。?)150℃下深紫外輻照3h可制備出具有雙極電阻轉(zhuǎn)變特性的Pt/ZrO2/ITO/PET器件,開(kāi)關(guān)比為105,當(dāng)器件的彎曲半徑為12.55mm時(shí),器件的循環(huán)性能明顯變差;
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