離子注入SiC的射程分布及損傷的研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、本文利用盧瑟福背散射/溝道技術(RBS/C)對稀土族元素鉺離子和釹離子注入SiC晶體和Si晶體中的射程分布和損傷分布及退火行為進行了較為系統(tǒng)的研究。實驗得到的結果與理論得到的結果進行了比較，對它們的符合程度作了比較和分析。主要包括以下幾個方面的內容：　　在第二章和第三章中，本文簡要介紹了SiC晶體的結構、特性以及半導體工藝中的常用摻雜方法——熱擴散和離子注入的特點及基本原理，還介紹了本論文的主要實驗方法——盧瑟福背散射/溝道技術(RB

2、S/C)的實驗設備及基本分析原理。　　在第四章中，本文報道了利用盧瑟福背散射技術(RBS)得到的400keV5×1015ions/cm2Er+和Nd+離子注入6H-SiC晶體中的射程分布。用表面能量近似法計算出平均投影射程和射程離散的實驗值和TRIM'98得到的理論值進行了比較，結果表明實驗得到的平均投影射程和射程離散與TRIM'98計算的理論值較好的符合。還介紹了用盧瑟福背散射技術和SeijiroFurukawa等人提出的實驗原理得

3、到的400keV，5×1015ions/cm2Er+和Nd+離子注入6H-SiC晶體中的橫向射程離散，計算得到的實驗值和TRIM'98得到的理論值進行了比較，實驗測出的橫向射程離散與TRIM'98計算的理論值較好的符合。　　第五章本文報道了利用盧瑟福背散射/溝道技術(RBS/C)，采用多重散射模型得到的400keV，5×1015ions/cm2的Er+和Nd+離子注入6H-SiC晶體以及Er+離子注入Si晶體產生的損傷分布情況。測量結

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